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KJLC beteiligt an der Entwicklung der SPION-Technologie

4. Mai 2015 | Verfasser: KJLC Blog

Eine Mehrzweckquelle wurde konstruiert, die entweder als eine Magnetron-Sputterkathode, eine End-Hall-Ionenquelle oder - abhängig von der Spannung - als beides gleichzeitig arbeiten kann. Eine konische Elektrode mit einem Hauptdurchmesser von 6,5 cm und einem eingeschlossenen Winkel von 90° wird mit einem Magnetfeld kombiniert, das über der Elektrode eine Plasmafalle bildet und auch über die Elektrodenöffnung hinausragt. Ein heißes Filament erzeugt Elektronen, wenn es als Ionenquelle arbeitet. Mit einer Al-Elektrode wurden alle drei Betriebsweisen demonstriert. Sputtern mit einer angelegten Spannung von -390 V erzeugt eine Al-Schicht mit einer spezifischen Depositionsrate von 4,0 (nm/min)/(W/cm2). Durch Anlegen einer Spannung von +340 V an die Elektrode bei einem Ar-Druck von 1 mT und Filamentstrom von 25 A, wurde ein thermisch erzeugter SiO2 Layer bei einer Rate von 5,2 nm/min geätzt. Schließlich wurde ein bipolares 40-kHz-Netzgerät verwendet, um alternierend positive und negative Spannung an die Elektrode bei einer Gesamtleistung von 200 W anzulegen. So wurde lichtbogenfrei eine Al2O3-Schicht bei einer Rate von 1,1 (nm/min)/(W/cm2) reaktiv gesputtert. Die Werte für n und k (632 nm) für Al2O3 waren jeweils 1,67 und 0,001.

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Schlagwörter:
Vakuumwissenschaft Depositionsverfahren



     
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