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Neue Erkenntnisse über den Elektronenfluss durch direkte Beobachtung der Speichenentwicklung beim Magnetron-Sputtern

25. Oktober 2017 | Verfasser: KJLC Innovate

In einer Veröffentlichung im Juli 2017 liefern die Drs. André Anders und Yuchen Yang eine verbesserte Beschreibung der Elektronenflüsse und -energien an der Oberfläche einer Magnetron-Sputterkathode. Durch die Kombination eines einzigartigen Bildgebungsverfahrens und einer linearen Kathode (Target) konnten die Forscher eine Reihe von Zeit/Raum-Bildern erzeugen, die Plasmainstabilitäten zeigen, die durch die Bewegung von Elektronen im Magnetfeld der Kathode angetrieben werden. Die Bilder zeigen die Auswirkungen auf den Plasmastrom sowohl beim herkömmlichen DC-Magnetron-Sputtern (dcMS), als auch für das Hochleistungsimpuls-Magnetron-Sputtern (HiPIMS). Die vollständige Veröffentlichung ist online verfügbar unter http://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.4994192.

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Schlagwörter:
INNOVATE Vakuumwissenschaft Depositionsverfahren



     
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