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KJLC® erhält ein Patent für sein Atomic-Layer-Depositionssystem und -Prozess

28. November 2017 | Verfasser: KJLC Innovate

Die Kurt J. Lesker Company® (KJLC®), ein globaler Hersteller von Vakuumsystemen, Dünnschichtdepositions-Tools und Vakuumkomponenten, gab heute bekannt, dass das amerikanische Patent- und Markenamt die US-Patentnummer 9.695.510 „Atomic Layer Deposition Apparatus and Process“ („Apparate und Prozesse der Atomschichtdeposition“) erteilt hat, die den Aufbau eines Atomschichtdepositionssystems und den Prozess zur Verwendung dieses Systems zur Deposition von hochpräzisen und konformen dünnen Schichten umfasst. Diese geschützte Technologie reduziert die Wechselwirkung verschiedener Precursor-Moleküle mit den inneren Oberflächen der Reaktionskammer wesentlich und ermöglicht eine tatsächliche Fokussierung von Gasströmen, um die Oberfläche von beliebig großen Substraten wirksamer zu beschichten.

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Schlagwörter:
INNOVATE Systeme Vakuumwissenschaft Depositionsverfahren



KJLC auf der 70 Jahreskonferenz Gaseous Electronics

28. November 2017 | Verfasser: KJLC Blog

Am 6 November 2017 hielten Jason Hrebik und J. R. Gaines Präsentationen auf der 70th Jahreskonferenz Gaseous Electronics (GEC2017), die im Doubletree Hotel, Green Tree, PA stattfand. Hrebik stellte seine Expertise durch eine Präsentation über die Fähigkeiten und Vorteile des HiPIMs-Prozesses vor (High Power Impulse Sputtern) und gab dem Publikum eine Einführung in das neue Netzgerät KJLC Impulse™. Bei der Konferenz gab es eine Reihe von Präsentationen von Industrieunternehmen, darunter LAM Research, Applied Materials und Tokyo Electron. Gaines beendete die Nachmittagssitzung mit einem Rückblick auf die praktischen Probleme, die mit der Integration und Anwendung von Plasmen bei der Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) verbunden sind.

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Schlagwörter:
Vakuumwissenschaft Depositionsverfahren



     
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