Hafniumoxid (HfO₂) Pellets und Tabletten Aufdampfmaterialien

Hafnium Oxide (HfO₂) Pellets & Tablets Overview

Wir verkaufen Pellets und Stückchen für die Verdampfung in Depositionsprozessen nach Stückgewicht. Die ungefähren Werkstoffpreise werden bereitgestellt, um Presiabschätzungen im Rahmen von Budgetplanungen zu ermöglichen. Actual prices can vary and may be higher or lower, as determined by availability and market fluctuations. To speak to someone directly about current pricing, please click here .

Hafnium Oxide (HfO₂) General Information

Hafniumoxid ist eine anorganische Verbindung mit der chemischen Formel HfO₂. Es hat eine Dichte von 9,68 g/cm³, einen Schmelzpunkt von 2.758 °C und einen Dampfdruck von 10^-4 Torr bei 2.500 °C. Es ist cremefarben und gilt allgemein als eine der stabileren Hafniumverbindungen. Hafniumoxid wurde in den letzten Jahren vermehrt in Computerchips eingesetzt, um die Geschwindigkeit und Effizienz von Prozessoren zu verbessern. Es wird auch für optische Beschichtungen und in der Halbleiterfertigung unter Vakuum verdampft..

Hafnium Oxide (HfO₂) Specifications

Werkstofftyp	Hafniumoxid
Symbol	HfO₂
Farbe und Aussehen	Weißer, kristalliner Feststoff
Schmelzpunkt (°C)	2.758
Theoretische Dichte (g/cm³)	9,68

Z-Verhältnis	**1,00
Elektronenstrahl	Ausreichend
Elektronenstrahlverdampfer Material Tiegeleinsatz	Direkt aus dem Pocket
Temp. (°C) für gegebenen Dampfdruck Druck (Torr)	10^-4: ~2.500
Exportkontrolle (ECCN)	1C231
Bemerkungen	HfO-Schicht.
Suggested QCM Crystal	Alloy Crystal: 750-1002-G10****

**** Suggestion based on previous experience but could vary by process. Contact local KJLC Sales Manager for further information

Hazard Notes:

Export Controlled: Es handelt sich um einen Werkstoff, dessen Export kontrolliert wird. Es können Einschränkungen gelten.

Thermische Verdampfung von Hafniumoxid (HfO₂)

Hafniumoxid kann von einem Wolframschiffchen wie unserem EVS8B005W thermisch verdampft werden, wenn ein KJLC^®-System verwendet wird. Wir gehen von einer Depositionsrate von 5 Angström pro Sekunde aus, wenn die Verdampfungstemperatur bei ~2.500 °C liegt. Es wird ein Partialdruck von O₂bei 5-10 X 10^-5Torr empfohlen. Es ist wichtig anzumerken, dass die Verdampfungstemperaturen wahrscheinlich die Temperaturen übersteigen, die zum Verdampfen mittels Widerstandsheizung geeignet sind. Bei der Deposition von HfO₂ wird die Elektronenstrahlverdampfung der thermischen Verdampfung vorgezogen.

Elektronenstrahlverdampfung von Hafniumoxid (HfO₂)

Hafniumoxid wird als „ausreichend/tauglich“ für die Elektronenstrahlverdampfung eingestuft. Bislang haben wir noch kein Material für die Verwendung als Tiegeleinsatz für die Elektronenstrahlverdampfung von Hafniumoxid qualifiziert und empfehlen generell, es direkt aus der Tasche der Elektronenkanone zu betreiben.

Falls möglich, wird die Ion Assisted Deposition (IAD) bei der Elektronenstrahlverdampfung von Hafniumoxid empfohlen. Wir empfehlen außerdem, den Elektronenstrahl bei geringer Leistung zu rastern (sweep) bis das Material vollständig geschmolzen ist und den Druck dabei kontinuierlich zu überwachen bevor die Leistung weiter erhöht wird, damit das Ausgasen auf einem akzeptablen Niveau bleibt. Beachten Sie, dass das geschmolzene Material schwarz wird und dass eine Bildung von Löcher (hole drilling) vermieden werden sollte. Wir gehen von einer Depositionsrate von 5 Angström pro Sekunde aus, wenn die Verdampfungstemperatur bei ~2.500 °C liegt. Es wird ein Partialdruck von O₂bei 5-10 X 10^-5Torr empfohlen. Unter diesen Parametern erwarten wir eine gute Haftung der Schichten.

Da es nicht immer möglich ist keinen Tiegeleinsatz zu verwenden (zum Beispiel, wenn das System von mehreren Gruppen für verschiedene Zwecke genutzt wird), benutzen einige Kunden einen Tiegeleinsatz aus Kupfer, anstatt das Material direkt in die Tasche des Elektronenstrahlverdampfers zu geben. Die Tiegeleinsätze sollten an einem kühlen, trockenen Ort gelagert und immer mit Handschuhen oder Pinzetten gehandhabt werden.

Füllmengenrechner für Tiegeleinsätze für Elektronenstrahlverdampfer

Anleitung:
Geben Sie das Volumen des Tiegeleinsatzes ein, wählen Sie den Werkstoff (falls nicht im Menü verfügbar, geben Sie die Materialdichte manuell in g/cm³ein) und tragen Sie die Füllrate in % ein.

KJLC empfiehlt eine Füllrate zwischen 67-75 %. Ein Überfüllen des Tiegels führt dazu, dass der Werkstoff überläuft und einen elektrischen Kurzschluss zwischen dem Liner und dem Heizer verursacht, wodurch der Tiegel reißt. Wenn zu wenig Material in den Tiegel gegeben wird oder der Schmelzpegel zu niedrig wird, kann dies ebenfalls nachteilig sein. Wenn der Schmelzpegel unter 30 % fällt, trifft der Elektronenstrahl mit hoher Wahrscheinlichkeit Boden oder Wände des Tiegels, was sofort zu einem Bruch führt.

Die obige Füllrate setzt voraus, dass der Werkstoff vollständig geschmolzen ist und berücksichtigt nicht die Packungsdichte. Es ist anzumerken, dass der Tiegeleinsatz möglicherweise mehrmals befüllt, angeschmolzen und nachgefüllt werden muss, um den endgültig gewünschten Schmelzpegel bzw. die Füllrate zu erreichen. Wenn Sie den Tiegel neu beladen, befüllen Sie ihn nicht mehr als bis 80 % der Höhe des Tiegeleinsatzes.

Dieser Rechner dient nur zu Schätzzwecken.

Crucible Liner Volume (in cc):

Werkstoff:

- or -
Density of the material in g/cm³:

Füllrate %:

Ergebnis

Die Ihrer Berechnung entsprechenden Ergebnisse sind in der untenstehenden Tabelle markiert.

Materialmenge zur Deposition einer Schichtdicke von 1 µm

Anleitung:
Select source type, input distance from source to substrate and Select Material (if not available in menu, manually input Material Density in kg/m³).

Dieser Rechner dient nur zu Schätzzwecken. The estimated mass is that needed to produce a desired film thickness (1 micron in this case) on a flat substrate at a point directly above the source, accounting for the approximate plume distribution of the selected source type. It does not account for any expected nonuniformity in thickness over a larger substrate area. More complex geometries, e.g. those with offset and/or tilted sources, may have higher material requirements. The estimated mass is for the film deposition only; additional margin should be included to account for loss during ramp-up, burn-in, stabilisation and ramp-down.

Source:

Distance of source to substrate (in cm):

Werkstoff:

- or -
Density of the material in kg/m³:

Multiplikator:

Masse für Filmdicke 1µm

Bestelltabelle

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Werkstoff	Beschreibung	Größe	Menge	Reinheit	Teilenummer	Preis	Auf Lager	Zum Warenkorb hinzufügen
Werkstoff	Beschreibung	Größe	Menge	Reinheit	Teilenummer	Preis	Auf Lager	Zum Warenkorb hinzufügen
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID TABLETTEN, HfO2, 99,9 % REIN, Ex Zr<=0,5 %, 10-12 MM DURCHMESSER X 4-5 MM DICKE, 25 GRAMM, WEISS	10–12 mm Dia. x 4 - 5 mm dick	25 g	99,9 %	EVMHFO2TABA	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID TABLETTEN, HfO2, 99,9 % REIN, Ex Zr<=0,5 %, 10-12 MM DURCHMESSER X 4-5 MM DICKE, 50 GRAMM, WEISS	10–12 mm Dia. x 4 - 5 mm dick	50 g	99,9 %	EVMHFO2TABB	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID TABLETTEN, HfO2, 99,9 % REIN, Ex Zr <=0,5 %, 10-12 MM DURCHMESSER X 4-5 MM DICKE, 100 GRAMM, WEISS	10–12 mm Dia. x 4 - 5 mm dick	100 g	99,9 %	EVMHFO2TABD	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID TABLETTEN, HfO2, 99,9 % REIN, Ex Zr<=0,5 %, 10-12 MM DURCHMESSER X 4-5 MM DICKE, 1 KILOGRAMM, WEISS	10–12 mm Dia. x 4 - 5 mm dick	1 kg	99,9 %	EVMHFO2TABKG	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID TABLETTEN, HfO2, 99,9 % REIN, Ex Zr<=0,5 %, 10-12 MM DURCHMESSER X 4-5 MM DICKE, 500 GRAMM, WEISS	10–12 mm Dia. x 4 - 5 mm dick	500 g	99,9 %	EVMHFO2TABT	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID STÜCKE, HfO2, 1-3 MM STÜCKE, 99,9 % REIN, 50 GRAMM, WEISS, GESINTERT	1 mm - 3 mm Stücke	50 g	99,9 %	EVMHFO21-3B	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID STÜCKE, HfO2 1-3 MM STÜCKE, 99,9 % REIN, 100 GRAMM, WEISS, GESINTERT	1 mm - 3 mm Stücke	100 g	99,9 %	EVMHFO21-3D	Auf Anfrage
Hafniumoxid	EUDF HAFNIUMOXID STÜCKE, HfO2, 99,9 % REIN, 1-3 MM STÜCKE, 200 GRAMM, WEISS, GESINTERT	1 mm - 3 mm Stücke	200 g	99,9 %	EVMHFO21-3H	Auf Anfrage

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Tabelle Starterquellen

Starterquellen können anstelle von Pellets für die Elektronenstrahlverdampfung verwendet werden. Diese Quellen sind vorbearbeitete oder vorgeschmolzene Stücke, die entweder in Verbindung mit einem Tiegeleinsatz oder direkt in der Kupfertasche einer Elektronenstrahlkanone verwendet werden können. Sobald die Starterquellen erschöpft sind, können sie mit zusätzlichen Pellets wieder aufgefüllt werden. Die Hauptvorteile der Starterquellen sind eine höhere Packungsdichte und Benutzerfreundlichkeit. In order to quote a starter source, please contact us by clicking here with your e-gun manufacturer and pocket size.

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Beschreibung	Werkstoff Symbol	Reinheit	TOD (in)	Height (in)	BOD (in)	Hinweise	Teilenummer	Preis	Auf Lager	Zum Warenkorb hinzufügen
Beschreibung	Werkstoff Symbol	Reinheit	TOD (in)	Height (in)	BOD (in)	Hinweise	Teilenummer	Preis	Auf Lager	Zum Warenkorb hinzufügen
EUDF HAFNIUMOXID VORGESCHMOLZEN STARTERQUELLE, HfO2, 99,9 % REIN, GESCHMOLZEN, 0,747" T AD X 0,322" DICKE, +/-0,030" T AD, +/-0,030" DICK, GRAU	HfO2	99,9 %	0,747	0,322	0,600		EVMHFO30.322	Auf Anfrage
EUDF HAFNIUMOXID VORGESCHMOLZEN STARTERQUELLE, HfO2, 99,9 % REIN, GESCHMOLZEN, 1,780" T AD X 0,641" DICKE, +/-0,030" T AD, +/-0,050" DICK, GRAU	HfO2	99,9 %	1,780	0,641	1,480		EVMHFO30.641	Auf Anfrage