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Aluminumoxid (Al₂O₃) Sputtertargets

Aluminiumoxid (Al₂O₃)-Sputtertargets Überblick

Unser umfassendes Angebot an Sputtertargets, Verdampferquellen und anderen Depositionswerkstoffen ist nach Werkstoff auf der Webseite aufgelistet. Nachfolgend finden Sie Preise für Sputtertargets und Depositionsmaterialien nach Ihren Anforderungen. Die tatsächlichen Preise können aufgrund von Marktschwankungen variieren. Klicken Sie bitte hier, wenn Sie direkt mit jemandem über die aktuellen Preise sprechen oder ein Angebot für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Beschichtungsprodukte anfordern möchten.

Aluminiumoxid (Al₂O₃) Allgemeine Informationen

Aluminiumoxid ist eine chemische Verbindung mit der chemischen Formel Al₂O₃. Es ist im Allgemeinen weiß oder klar mit einem Schmelzpunkt von 2.072 °C, einem Dampfdruck von 10^-4 Torr bei 1.550 °C und einer Dichte von 3,97 g/cm³. Es wird am häufigsten in der Natur als Mineral Korund gefunden, aus dem sich Rubin und Saphir ableiten. Aluminiumoxid wird weithin als Schleifmittel verwendet und auch in verschiedenen anderen industriellen Anwendungen. Es kann auch in Farben, Kosmetika und chirurgischen Implantaten vorgefunden werden. Es wird unter Vakuum verdampft, um dielektrische Schichten für die Halbleiterindustrie zu erzeugen und spiegelähnliche Schutzschichten für optische Beschichtungen.

Aluminiumoxid (Al₂O₃)-Spezifikationen

* Dies ist eine Empfehlung, die auf unserer Erfahrung mit diesen Materialien in KJLC-Sputterkanonen basiert. Die Raten basieren auf nicht-gebondeten Targets und sind materialspezifisch. Gebondete Targets sollten mit geringerer Leistung betrieben werden, um ein Versagen des Bondings zu vermeiden. Gebondete Targets sollten je nach Material mit 20 Watt/Quadratzoll oder niedriger betrieben werden.

* Die vorgeschlagenen maximalen Leistungsdichten basieren auf einer Sputterausrichtung mit optimaler Wärmeübertragung vom Target zur Sputterkathoden-Kühlwanne. Die Verwendung anderer Sputterausrichtungen oder eine schlechte thermische Schnittstelle zwischen Target und Sputterkathodenkühlung kann eine Reduzierung der vorgeschlagenen maximalen Leistungsdichte bzw. die Verwendung einer Wärmeleitpaste erfordern. Bitte kontaktieren Sie techinfo@lesker.com für spezifische Leistungsempfehlungen.

Z-Faktoren

Empirische Bestimmung des Z-Faktors

Leider sind der Z-Faktor und das Schubmodul für viele Werkstoffe nicht ohne weiteres verfügbar. In diesem Fall kann der Z-Faktor auch empirisch unter Verwendung der folgenden Verfahren bestimmt werden:

• Legen Sie den Werkstoff ab, bis die Lebensdauer des Kristalls bei 50 % oder kurz vor dem Ende der Lebensdauer des Kristalls liegt, je nachdem, was früher eintritt.
• Legen Sie ein neues Substrat neben den verwendeten Quarzsensor.
• Stellen Sie die QCM Dichte auf den kalibrierten Wert ein; Werkzeug auf 100 %.
• Nehmen Sie eine Null-Kalibrierung der Schichtdickenmessung vor.
• Dampfen Sie ungefähr 1000 bis 5000 A des Werkstoffs auf das Substrat auf.
• Verwenden Sie ein Profilometer oder Interferometer, um die tatsächliche Dicke der Substratschicht zu messen.
• Stellen Sie den Z-Faktor des Instruments ein, bis der korrekte Dickenwert angezeigt wird.

Eine weitere Alternative besteht darin, die Kristalle häufig zu wechseln und den Fehler zu ignorieren. Die folgende Grafik zeigt den %-Fehler in der Rate bzw. Dicke bei Verwendung des falschen Z-Faktors. Bei einem Kristall mit einer Lebensdauer von 90 % ist der Fehler vernachlässigbar, selbst für große Fehler in dem programmierten gegenüber dem tatsächlichen Z-Faktor.