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TORUS® Sputter-Cluster, runde Magnetrons TORUS® Circular Magnetron Sputtering Source Clusters 1 TORUS® Circular Magnetron Sputtering Source Clusters 2 TORUS® Circular Magnetron Sputtering Source Clusters 3 TORUS® Circular Magnetron Sputtering Source Clusters 4 TORUS® Circular Magnetron Sputtering Source Clusters 5

TORUS® Sputter-Cluster, runde Magnetrons

Co-Deposition verschiedener Materialien ist von großer Wichtigkeit in der Materialforschung und auch Produktion von Dünnschichten. Cluster aus mehreren TORUS Sputterquellen (Kathoden), die auf einem einzelnen Flansch montiert werden, sind für diese Anwendungen ideal.

TORUS Clusterquellen sind mit optionalem Schutz vor Kreuzkontamination, eingebauten Target-Gaszufuhröffnungen, individuellen Quellenblenden und in einer Vielzahl an Flanschbefestigungsoptionen verfügbar.

Bei Anwendungen, für welche gleichzeitige Depositionen auf großflächigen Substraten erforderlich sind, müssen hinsichtlich der Substratrotation entsprechende Vorkehrungen am Depositionssystem vorgenommen werden, um eine gleichmäßige Schichtdicke und Legierungszusammensetzung zu erzielen. Bei nicht rotierenden Depositionen kann ein geplanter Gradient in der Zusammensetzung erstellt werden.

HINWEIS: LTE- und HTE-Clusterquellen sind ebenfalls verfügbar. Setzen Sie sich mit uns in Verbindung, um mehr zu erfahren.

Bemaßte Zeichnungen


Magnetron-Sputtern
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Produktkonfiguration

1. Serie:
2. Kanonengröße:
3. Clusterbezeichnung:
4. Quellenmenge:
5. Flanschpunkte:
6. Magnetkonfiguration:
7. Befestigung:
8. Rohrlänge:
9. Gas/Abzug:
10. Shutter:
11. Flanschgröße:

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