Schließen

Bitte wählen Sie das von Ihnen gewünschte Land oder die Region aus,
um auf die entsprechende Website von Lesker weitergeleitet zu werden.

Atomlagendepositionssysteme

KJLC® bietet derzeit zwei hochmoderne Systeme für die Atomlagendeposition (ALD) an: das ALD150LX™ und das ALD150LE™. As substrate features continue to decrease in size while increasing in complexity, ALD techniques are becoming increasingly important to meet the strict demands for conformal, pristine, high quality thin films and their interfaces. Beide Systeme sind ideal geeignet, um auch die anspruchsvollsten Herausforderungen der nächsten Generation 3D Nanotechnologie zu meistern.

Our ALD platforms feature robust, compact designs that provide the utmost in flexibility while maintaining system component accessibility and serviceability. Alle Systemkomponenten erfüllen höchste Qualitätsstandards, auch die Teile aus eigener Fertigung des Geschäftsbereichs Kammerbau.

ALD150LX™ - Entwickelt für fortgeschrittene Anwendungen in Forschung und Entwicklung

  • Konfiguration als rein thermische oder plasmaunterstützte Prozesskammer
  • Unique perpendicular flow design with Patented Precursor Focusing Technique™
  • Patent Pending Ultrahigh Purity (UHP) Process Capability for production of high-purity thin films & interfaces
  • Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm mit einer unabhängigen Substratheizstation für den Betrieb bei 600 °C.
  • High-performance, remote inductively coupled plasma (ICP) source with up to eight plasma gas lines
  • Accommodates up to twelve precursor sources with four separate chamber inlets (not including plasma)
  • Verschiedene Optionen für die Zuführung von Precursorn sind verfügbar, einschließlich Dampf-, Durchfluss- und gepulste Gaszufuhr.
  • Als Expositionsmodi für die Precursor stehen zu Verfügung: dynamisch, statisch und der Variable Residence Mode™.
  • Einzigartige Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit der beheizten Systemkomponenten.
  • Analytical ports (standard) for real-time process monitoring by in-situ ellipsometry (optional) or other optical techniques
  • Ozone source (optional)
  • Glovebox, load-lock (single or multi-wafer cassette) and cluster tool connectivity (high vacuum integration with KLJC PVD systems, surface analysis & preparatory chambers, etc.)
  • High speed, precision ALD valve timing
  • KJLC® eKLipse™ Systemsteuerungssoftware für höchste Prozessanforderungen
  • Wartungsarme, servicefreundliche Kammerausführung
Weitere Infos



ALD150LE™ - Unser preisgünstigstes ALD-System, das speziell für den Einstieg in den mittleren Leistungsbereich entwickelt wurde.

  • Konfiguration als rein thermische Prozesskammer
  • Senkrechte Strömung, Duschkopfdesign für gleichmäßige Precursorverteilung und -zufuhr.
  • Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm mit einer unabhängigen Substratheizstation für den Betrieb bei 500 °C.
  • Für bis zu zehn Precursorquellen mit zwei separaten Kammereinlässen.
  • Verschiedene Optionen für die Zuführung von Precursorn sind verfügbar, einschließlich Dampf-, Durchfluss- und gepulste Gaszufuhr.
  • Als Expositionsmodi für die Precursor stehen zu Verfügung: dynamisch, statisch und der Variable Residence Mode™.
  • Einzigartige Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit der beheizten Systemkomponenten.
  • Ozonquelle
  • Glovebox-Anschlussmöglichkeit.
  • Echte Präzisions-ALD-Ventilsteuerung
  • KJLC® eKLipse™ Systemsteuerungssoftware für höchste Prozessanforderungen
  • Wartungsarmes, wartungsfreundliches Reaktordesign.
Weitere Infos

Wünschen Sie weitere Informationen?

Haben Sie noch Fragen? Klicken Sie unten, um mit einem unserer vielen erfahrenen Teammitglieder in Kontakt zu treten.

KONTAKTIEREN SIE UNS NOCH HEUTE
Contact Us - Atomlagendepositionssysteme


Nach oben

Powered by Translations.com GlobalLink OneLink SoftwarePowered By OneLink