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Cluster und kundenspezifische Depositionssysteme

Ein Cluster-Tool nutzt eine zentrale Roboter-Verteilerkammer, um mehrere Prozess- (PVD, ALD) und Messkammern zu verbinden und gleichzeitig den Substrattransfer unter Vakuum zu ermöglichen. Ein kundenspezifisches System wird entwickelt, um Ihre spezifischen Anforderungen an eine Vakuum-Prozesslösung zu erfüllen.

OCTOS™ - Automatisiertes Cluster-Tool für die Dünnschichtdeposition

  • Die automatisierte Cluster-Tool-Systemplattform von KJLC, die speziell für den anspruchsvollen Forscher entwickelt wurde.
  • Enthält ein zentrales Roboter-Probentransfersystem, das den Anschluss von bis zu 10 Prozessmodulen ermöglicht.
  • Mehrkammerfähigkeit für die Herstellung von Bauelementen, Dünnschichtdeposition und -analyse, GMR-Magnetfilme, F&E/Produktion und organische Displays, Beleuchtung oder Elektronik.
  • Magnetronsputtern, thermische Verdampfung, Elektronenstrahlverdampfung, Verdampfung organischer Materialien und Atomlagendeposition.
  • Standardkonfigurationen kompatibel mit bis zu 8" x 8" (200 mm x 200 mm) quadratische Substrate; Probenerheizung, -kühlung, -Bias und -reinigung möglich.
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Kundenspezifische Dünnschichtdepositionssysteme

  • Einfache Einkammer-Glockensysteme für kleinere F&E-Anwendungen bis hin zu komplexen computergesteuerten Mehrkammer-Clustersystemen für die OLED/PLED-Produktion und alles dazwischen.
  • Magnetron-Sputterquellen (RF, DC und Pulsed DC) in linearer und zirkularer Ausführung.
  • ISO Flux, Hohlkathoden-Magnetron-Sputtersysteme für fortschrittliche Beschichtungen auf 3D-Substraten oder außeraxiales Sputtern.
  • Elektronenstrahlverdampfung
  • Thermisches Verdampfen für Metalle und organische Stoffe.
  • Impulsgefilterte Lichtbogendepositionssysteme.
  • Ionenquellen zur Substratreinigung und Ionen-unterstützter Deposition.
  • HV- oder UHV-Vakuumsysteme
  • Systeme zur Herstellung und F&E im Bereich GMR und OLED/PLED
  • Industrielle Beschichtungsanlagen und Weltraumsimulationssysteme
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