Klassische Depositionssysteme

CMS-Reihe (Combinatorial Materials Science): Fortschrittliches Forschungssystem mit Sputter- oder Elektronenstrahlverfahren.

• Die CMS-Plattform ist ein vielseitiges Dünnschichtdepositionssystem für die Forschung und Entwicklung in der Materialwissenschaft.
• Konfigurierbar mit sechs oder mehr Magnetron-Sputterquellen.
• Lineare Multi-Pocket-UHV-Elektronenstrahlverdampfungsquellen verfügbar (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
• Ölgedichtete oder trockene Grobvakuumpumpen, Kryopumpen oder magnetgelagerte Turbo-Hochvakuumpumpen verfügbar.
• Kompatibel mit bis zu 8" OD-Substrate, kundenspezifische Konfigurationen möglich.
• Substratheizung auf 1100 °C, Kühlung und Bias möglich.
• Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
• Rezeptbasierte Computersteuerung und Datenprotokollierung möglich.

AXXIS - Co-Sputtering, Thermische Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung

• Die AXXIS-Plattform verfügt über radial angeordnete Ports zur Deposition und eine rechtwinklig kippbare Substratstation, um mehrere Depositionsverfahren effizient zu ermöglichen.
• Die Substratstation ermöglicht eine präzise Winkelauflösung für Anwendungen wie z.B. die winkelabhängige Deposition.
• Bis zu 6 HV-Magnetron-Sputterquellen, Multipocket-Elektronenstrahlverdampfungsquellen, bis zu 3 thermische Verdampfungsquellen (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
• Nasse oder trockene Grobvakuumpumpen, Turbopumpen, magnetgelagerte Turbopumpen oder Kryopumpen als Option erhältlich.
• Standardkonfigurationen sind mit bis zu 8" Substraten kompatibel; kundenspezifische Konfigurationen möglich, Heizung bis zu 550 °C, optional Kühlung und Glimmentladung.
• Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
• Grundlegende Computersystemsteuerung, rezeptbasiert und mit Datenprotokollierungsoptionen verfügbar.

PVD-DRUM

• Die PVD-DRUM-Plattform kombiniert eine Trommelhalterung mit linearen Kathoden zu einem System mit hohem Durchsatz und hoher Homogenität.
• Die vertikale, zylindrische Trommel enthält mehrere Wafer, die durch die Deposition der linearen Kathoden gedreht werden.
• Lineare Kathoden bieten eine sehr gleichmäßige Beschichtung über eine große Fläche, um eine typische Homogenität der Deposition von besser als +/-5 % zu erreichen.
• Diese Systeme verwenden die Standardkammern und -Komponenten der PVD 75, PVD 200 und PVD 500-Plattformen.
• Kundenspezifische Konfigurationen sind möglich.

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