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Klassische Depositionssysteme

Plattformen, die speziell für die Anforderungen eines Kunden entwickelt werden.

CMS-Reihe (Combinatorial Materials Science): Fortschrittliches Forschungssystem mit Sputter- oder Elektronenstrahlverfahren.

  • Die CMS-Plattform ist ein vielseitiges Dünnschichtdepositionssystem für die Forschung und Entwicklung in der Materialwissenschaft.
  • Konfigurierbar mit sechs oder mehr Magnetron-Sputterquellen.
  • Lineare Multi-Pocket-UHV-Elektronenstrahlverdampfungsquellen verfügbar (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
  • Ölgedichtete oder trockene Grobvakuumpumpen, Kryopumpen oder magnetgelagerte Turbo-Hochvakuumpumpen verfügbar.
  • Kompatibel mit bis zu 8" OD-Substrate, kundenspezifische Konfigurationen möglich.
  • Substratheizung auf 1100 °C, Kühlung und Bias möglich.
  • Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
  • Rezeptbasierte Computersteuerung und Datenprotokollierung möglich.
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AXXIS - Co-Sputtering, Thermische Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung

  • Die AXXIS-Plattform verfügt über radial angeordnete Ports zur Deposition und eine rechtwinklig kippbare Substratstation, um mehrere Depositionsverfahren effizient zu ermöglichen.
  • Die Substratstation ermöglicht eine präzise Winkelauflösung für Anwendungen wie z.B. die winkelabhängige Deposition.
  • Bis zu 6 HV-Magnetron-Sputterquellen, Multipocket-Elektronenstrahlverdampfungsquellen, bis zu 3 thermische Verdampfungsquellen (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
  • Nasse oder trockene Grobvakuumpumpen, Turbopumpen, magnetgelagerte Turbopumpen oder Kryopumpen als Option erhältlich.
  • Standardkonfigurationen sind mit bis zu 8" Substraten kompatibel; kundenspezifische Konfigurationen möglich, Heizung bis zu 550 °C, optional Kühlung und Glimmentladung.
  • Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
  • Grundlegende Computersystemsteuerung, rezeptbasiert und mit Datenprotokollierungsoptionen verfügbar.
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PVD-DRUM

PVD-DRUM

PVD-DRUM

  • Die PVD-DRUM-Plattform kombiniert eine Trommelhalterung mit linearen Kathoden zu einem System mit hohem Durchsatz und hoher Homogenität.
  • Die vertikale, zylindrische Trommel enthält mehrere Wafer, die durch die Deposition der linearen Kathoden gedreht werden.
  • Lineare Kathoden bieten eine sehr gleichmäßige Beschichtung über eine große Fläche, um eine typische Homogenität der Deposition von besser als +/-5 % zu erreichen.
  • Diese Systeme verwenden die Standardkammern und -Komponenten der PVD 75, PVD 200 und PVD 500-Plattformen.
  • Kundenspezifische Konfigurationen sind möglich.

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