Klassische Depositionssysteme
Plattformen, die speziell für die Anforderungen eines Kunden entwickelt werden.
CMS-Reihe (Combinatorial Materials Science): Fortschrittliches Forschungssystem mit Sputter- oder Elektronenstrahlverfahren.
- Die CMS-Plattform ist ein vielseitiges Dünnschichtdepositionssystem für die Forschung und Entwicklung in der Materialwissenschaft.
- Konfigurierbar mit sechs oder mehr Magnetron-Sputterquellen.
- Lineare Multi-Pocket-UHV-Elektronenstrahlverdampfungsquellen verfügbar (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
- Ölgedichtete oder trockene Grobvakuumpumpen, Kryopumpen oder magnetgelagerte Turbo-Hochvakuumpumpen verfügbar.
- Kompatibel mit bis zu 8" OD-Substrate, kundenspezifische Konfigurationen möglich.
- Substratheizung auf 1100 °C, Kühlung und Bias möglich.
- Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
- Rezeptbasierte Computersteuerung und Datenprotokollierung möglich.
AXXIS - Co-Sputtering, Thermische Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung
- Die AXXIS-Plattform verfügt über radial angeordnete Ports zur Deposition und eine rechtwinklig kippbare Substratstation, um mehrere Depositionsverfahren effizient zu ermöglichen.
- Die Substratstation ermöglicht eine präzise Winkelauflösung für Anwendungen wie z.B. die winkelabhängige Deposition.
- Bis zu 6 HV-Magnetron-Sputterquellen, Multipocket-Elektronenstrahlverdampfungsquellen, bis zu 3 thermische Verdampfungsquellen (Multi-Technik-Optionen verfügbar).
- Nasse oder trockene Grobvakuumpumpen, Turbopumpen, magnetgelagerte Turbopumpen oder Kryopumpen als Option erhältlich.
- Standardkonfigurationen sind mit bis zu 8" Substraten kompatibel; kundenspezifische Konfigurationen möglich, Heizung bis zu 550 °C, optional Kühlung und Glimmentladung.
- Single- oder Multi-Wafer-Schleusenkammer optional erhältlich.
- Grundlegende Computersystemsteuerung, rezeptbasiert und mit Datenprotokollierungsoptionen verfügbar.
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