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Physikalische Gasphasendepositionssysteme

Physikalische Gasphasendeposition (PVD) erzeugt dünne Schichten und Beschichtungen durch ein Verfahren, bei dem ein Targetmaterial verdampft, transportiert und auf einem Substrat kondensiert wird. Zu den PVD-Prozessen gehören Sputtern, Elektronenstrahl und Thermisches Verdampfen.

PRO Line PVD Serie: Vielseitige Plattform für Sputter-, Elektronenstrahl-, thermische und organische Deposition.

Die PRO Line PVD Serie verwendet ein modulares Design, das für eine Vielzahl von Dünnschichtdepositionsanwendungen konfigurierbar ist.

  • Erhältlich in drei verschiedenen Kammergrößen: PVD75, PVD200 und PVD500
  • Erhältlich mit TORUS® Mag Keeper™ UHV-kompatible, runde Magnetron-Sputterquellen mit Durchmessern von 2", 3" und 4".
  • Lieferbar mit TORUS® Linearmagnetrons.
  • Erhältlich mit Multi-Pocket-Elektronenstrahl-Verdampfungsquellen.
  • Erhältlich in Konfiguration mit mehreren thermischen Verdampfungsquellen.
  • Mit bis zu zwei organischen Verdampfungsquellen.
  • Multi-Technik-Optionen verfügbar. Beispiele: Elektronenstrahl + Sputtern, Elektronenstrahl + Verdampfen
  • Nasse oder trockene Grobvakuumpumpen, Turbopumpe oder Kryopumpe verfügbar als Optionen für Hochvakuumpumpen.
  • Standardkonfigurationen kompatibel mit Substraten von 11" bis 20" Außendurchmesser (abhängig von der Kammergröße); Heizung bis zu 850 °C, Kühlung und Bias optional verfügbar.
  • Single- und Multi-Wafer Schleusenkammeroptionen für Substrate bis zu 6" verfügbar.
  • Die PVD-Anlagen der PRO-Line-Reihe umfassen das innovative Steuerungspaket von KJLC eKLipse™.

Um mehr über unsere Systeme der PRO Line PVD Serie zu erfahren, wählen Sie bitte unten eine Plattform aus:

PRO Line PVD 75 PRO Line PVD 200

PRO Line PVD 500

Setzen Sie sich mit uns in Verbindung, um mehr zu erfahren:
1.800.245.1656 | salesus@lesker.com
Fragebogen PVD-Anlagen



SPECTROS™ Serie: Plattform für organische Dünnschichtdeposition und Metallisierung.

Wie KJLC sich durchsetzt
Perowskit Forschung
Wie wir die Erforschung von Perowskit-Solarzellen mit Hilfe unserer Serie von Depositionssystemen für organische Materialen ermöglicht haben.
Mehr Infos ▶
  • Erhältlich in drei verschiedenen Kammergrößen: Mini- SPECTROS™, SPECTROS™150 und Super-SPECTROS™ 200
  • Enthält eine Schiebetür mit Glovebox-Schnittstellenflansch und aufklappbarer Rücktür für ungehinderten Zugang zur Kammer.
  • Erhältlich mit mehreren 1cc, 10cc oder 35cc steckbaren organischen Niedertemperaturquellen und thermischen Verdampfungsquellen. Der Mini kann bis zu zwei TORUS® Mag Keeper™ kreisförmige Magnetron-Sputterquellen aufnehmen. Das SPECTROS kann eine Elektronenstrahlverdampfungsquelle mit mehreren Taschen aufnehmen. Multi-Technik-Optionen verfügbar.
  • Schnecken-Grobpumpen; Turbo- und Tieftemperatur-Hochvakuumpumpenoptionen.
  • Standardkonfigurationen kompatibel mit 4" x 4" (100 mm x 100 mm) bis zu 8" x 8" (200 mm x 200 mm) quadratische Substrate (ausstehende Kammergröße), bis zu 350 °C Heizleistung, Glovebox, bis zu 5 Maskenablagen mit motorisiertem Transfer und Wedge Werkzeugoptionen.
  • Single- und Multi-Wafer Schleusenkammeroptionen für Substrate bis zu 8" x 8" (200 mm x 200 mm) verfügbar.
  • Rezeptgesteuertes Computersystem mit dem erweiterten, innovativen KJLC Steuerungspaket eKLipse™ .

Um mehr über unsere Systeme der SPECTROS Serie zu erfahren, wählen Sie bitte eine der folgenden Plattformen aus:

Mini SPECTROS SPECTROS 150 Super SPECTROS 200



Klicken Sie hier, um Photo-SY-LABLineSeries-Sputter_01.jpg zu sehen.
LAB Line Sputter 5

LAB Line Sputter 5

LAB Line – High-Performance UHV Platform Optimized for Magnetron Sputtering Applications

  • The LAB Line series of platforms is purpose built to optimize performance in UHV magnetron sputtering applications.
  • Comprised of 2 standard platforms (LAB Line SPUTTER 5 and LAB Line Sputter 12) with various system options.
  • LAB Line SPUTTER 5 features up to 5 MagKeeper UHV magnetron sputtering sources in a confocal arrangement.
  • LAB Line SPUTTER 12 features up to 12 MagKeeper UHV magnetron sputtering sources in a confocal arrangement.
  • Both LAB Line SPUTTER 5 and LAB Line SPUTTER 12 are fully bakeable to achieve UHV pressures.
  • Turbo or cryogenic high vacuum pumping are options available, both with dry rough pumping.
  • Standard configurations compatible with up to 150 mm O.D. substrates; custom substrate configurations available, up to 1000°C heating, cooling, and biasing options available.
  • Standard configuration supports single wafer load lock, customized options available.
  • LAB Line series of PVD tools include KJLC's innovative eKLipse advanced control package.
Weitere Infos



NANO 36™: Kostengünstiges, Glovebox-kompatibles Dünnschicht-Depositionssystem, Sputtern oder thermisches Verdampfen

Wie KJLC sich durchsetzt
Perowskit Forschung
Wie wir die Erforschung von Perowskit-Solarzellen mit Hilfe unserer Serie von Depositionssystemen für organische Materialen ermöglicht haben.
Mehr Infos ▶
  • Die günstigste Depositionssystemplattform von KJLC, die speziell für die nahtlose Integration in Gloveboxen entwickelt wurde.
  • Wird typischerweise in der F&E-Umgebung von Universitäten und Instituten eingesetzt.
  • Magnetron-Sputtern oder thermisches Verdampfen als Depositionsverfahren verfügbar. Als thermische Verdampfungsverfahren stehen Ihnen optional auch unsere LTE-Quellen (Niedertemperaturverdampfung) zur Auswahl, die sich hervorragend für die Deposition flüchtiger organischer Stoffe eignen.
  • Bis zu 3 TORUS® Mag Keeper™ Magnetron-Sputterquellen oder bis zu 4 thermische Verdampfungsquellen möglich.
  • Nasse oder trocken gedichtete Grobvakuumpumpen verfügbar.
  • Standardkonfigurationen kompatibel mit Substratgrößen bis zu 6"; optional mit Substratheizung- oder -kühlung.
  • Dieses System wird standardmäßig mit unserer kompletten KJLC® eKLipse™ Steuerungssoftware ausgeliefert.
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