EC-R-Serie – Rechtwinklige Depositionsprobenstationen

• 2" bis 6" Substratdurchmesser
• Substrate heating to 1200°C
• Kontinuierliche azimutale Rotation bis 60rpm
• Polare Drehung (Neigung) bis zu +/- 180°
• DC/RF-Substrat-Bias
• optionale X-, Y- & Z-Bewegung
• SiCg oder sSiC Heiztechnologie
• Echte UHV-Leistung

Der EC-R bietet Substratrotation, -Tilt, -Heizung und elektrischen Bias, wobei die Substratoberfläche im rechten Winkel zur Ebene des Montageflansches steht. Die Basiskonfiguration des EC-R liefert Polarrotation, um den Einfallswinkel bezüglich des Depositionsflusses und der Probenheizug einzustellen. Das modulare EC-R-Konzept bietet die Flexibilität, Optionen wie eine azimutale Rotation auszuwählen, um das Substrat kontinuierlich zu drehen, um Temperatur- und die Depositionshomogenität zu maximieren. X-, Y- und Z-Bewegung können hinzugefügt werden, um die Probenstation an Ihre spezifische Anwendung anzupassen. Das Konzept dieser Probenstation wurde stark geprägt von einem vollständige Überdenken bestehender rechtwinkliger Depositionsprobenstationen. Durch das Stacking von zwei magnetisch gekoppelten 'MagiDrive' Drehdurchführungen ist UHV Design in der Lage, ein zweiachsiges, konzentrisches Rotationssystem zu realisieren, bei dem das in anderen Konstruktionen üblicherweise verwendete Positioniergetriebe zur Einstellung des Kopfs entfällt. Durch Integration unserer neuesten Heizmodultechnologie in diese Probenstation wurden außerdem Verbesserungen gegenüber herkömmlichen Konstruktionen bezüglich der erzielbaren Temperaturfähigkeit, Homogenität und Zuverlässigkeit des Heizelements erreicht. Zur Abschirmung des Heizmoduls ist standardmäßig eine hitzebeständige Depositionabschirmung vorgesehen.

Der EC-R kann auch spezifisch als Nachrüstinstrument für MBE-Systeme wie das VG Semicon V80H konfiguriert werden.