GLAD Serie – Glancing Angle Depositionsprobenstationen

• Kontinuierliche, azimutale Rotation von 0,1 - 20rpm, bei jedem Neigungswinkel von Null bis +/- 85 Grad.
• Substratheizung auf 1200° C, mit Fest-Siliciumcarbid - Technologie gewährleistet Haltbarkeit in O₂-reicher Umgebung.
• DC-Bias ≤ 1 kV zur Modifizierung des Sputterprozesses - ultrastabiles Plasma während azimutaler Rotation.
• RF-Bias bis zu 100 W für die Substratreinigung vor der Deposition. Ultrastabiles Plasma während azimutaler Rotation.
• Z-Hub bis zu 200 mm, um unterschiedliche Quellgeometrien zu berücksichtigen.
• Optionale Rotation des gesamten Aufbaus aus Probenstation und Tilt-Achse, um Glancing Angle Deposition aus Quellen außerhalb der Ebene (out-of-plane). (Erfordert die Verwendung einer differentiell gepumpten Drehdurchführung, die als Option montiert werden kann.)

Die Glancing Angle Deposition (GLAD) ist von großem Interesse in Bereichen, in denen eine strukturierte dreidimensionale Deposition erforderlich ist.

Basierend auf dem sehr erfolgreichen EpiCentre-Sortiment von UHV Design bietet die GLAD-Bühne eine Inline-Lösung (wie bei der EC-I-Serie), jedoch mit zusätzlichem Substrat-Tilt. Da es sich um eine Inline-Probenstation handelt, kann ein großer Bereich axialer (Z) Bewegung bereitgestellt werden.

Durch die gleichzeitige präzise Steuerung der polaren und azimutalen Rotationen können neue Strukturen gezüchtet werden, die beispielsweise eine säulenartige Morphologie oder eine nano-helikale Struktur aufweisen oder die durch anisotrope Abschattung strukturiert werden. Solche Materialien finden in vielen hochaktuellen Bereichen, wie der Photonik, Katalyse, biokompatible Materialien und bei Brennstoffzellen Anwendung. Da sie vollständig UHV-kompatibel ist, eignet sich die GLAD-Probenstation hervorragend für die Verwendung mit allen üblichen, direktionalen Depositionsquellen, einschließlich:

• Thermisches Verdampfen
• Physikalische Gasphasen-Deposition
• Gepulste Laserdeposition
• Magnetron-Sputtern