Bitte wählen Sie das von Ihnen gewünschte Land oder die Region aus,
um auf die entsprechende Website von Lesker weitergeleitet zu werden.

Fragebogen Epicentre Probenstation

2. Bühnenausrichtung

Vertikal - Substrat zeigt nach oben

Vertikal - Substrat zeigt nach unten

Andere (Nicht-Standard-Option, bitte unten angeben)

Winkeldeposition erforderlich: Ja Nein

3. EC-I Montageflansch erforderlich

10" AD CF

12" AD CF

14" AD CF

16,5" AD CF

Andere (Nicht-Standard-Option, bitte unten angeben)

4. EC-I Substratgröße

2 Zoll

100 mm

150 mm

200 mm

Andere (Nicht-Standard-Option, bitte unten angeben)

Substrat kann Folgendes sein:

Blanker Wafer

In einer Halterung

EpiCentre Konfiguration & Optionen

EC-I Konfiguration

Hinweis: Standard-EC-I-Konfiguration ausgewählt - klicken Sie auf Optionen, um eine Alternative auszuwählen.

5. Substratvorspannung

Keine

DC/HF-Vorspannung (Option)

6. Substratrotation

Schrittmotor

24V DC Motor (Option)

Smart Motor (Option)

Kein Motor (Option)

7. Substratrotationsgeschwindigkeit

20rpm (empfohlen)

Anderes - bitte angeben

U/Min

8. Rotations-Controller

Keine

Mitgeliefert (Option)

9. Halterung heben/senken, um den Probentransfer zu erleichtern

25 mm pneumatisch

Handrad (Option)

10. Halterungszielsensor

Nicht mitgeliefert

Angebracht (Option)

11. Wie werden Proben übertragen?

Manuell unter Atmosphäre

Transferarm unter Vakuum

12. Depositionshöheneinstellung

Keine

50 mm (Option)

100 mm (Option)

150 mm (Option)

Antrieb:

Keine Manuell Motorisiert

13. Substratblende

Keine

Manuelle Blende (Option)

Motorisierte Blende (Option)

Pneumatische Blende (Option)

14. Hitzeschilde

Molybdänschilde

Inconel Schilde (Option)

15. Depositionsbehälter

Keine

Mitgeliefert (Option)

16. Thermoelement

Keine erforderlich

Typ K

Typ C

Benötigte Menge

Keine Eins Zwei

2. EC-R Montageflansch

8" AD CF

10" AD CF

12" AD CF

Andere (Nicht-Standard-Option, bitte unten angeben)

3. EC-R Substratgröße

2 Zoll

100 mm

200 mm

Andere (Nicht-Standard-Option, bitte unten angeben)

Substrat kann Folgendes sein:

Blanker Wafer

In einer Halterung

EpiCentre Konfiguration & Optionen

EC-R Konfiguration

Hinweis: Standard-EC-R-Konfiguration ausgewählt - klicken Sie auf Optionen, um eine Alternative auszuwählen.

4. Polare (primäre) Rotation

Manuell

Schrittmotor (Option)

Kein Motor (Option)

5. Substratvorspannung

Keine

DC/HF-Vorspannung (Option)

6. Substrat (Azimutal) Rotation

Keine

Schrittmotor (Option)

24V DC Motor (Option)

Manuell (Option)

Kein Motor (Option)

7. Substratrotationsgeschwindigkeit
(wenn die Substratrotationsoption ausgewählt wird)

20rpm (empfohlen)

Anderes - bitte angeben

U/Min

8. Rotations-Controller

Keine

Mitgeliefert (Option)

9. Rotations-Zielsensor

Nicht mitgeliefert

Angebracht (Option)

10. Wie werden Proben übertragen?

Manuell unter Atmosphäre

Transferarm unter Vakuum

11. Z-Verschiebe-Anpassung

Keine

Bitte unten angeben (Option)

12. XY-Bewegung

Keine

Erforderlich (Option)

Antrieb:

Keine Manuell Motorisiert

13. Thermoelement

Keine erforderlich

Typ K

Typ C

Sollen im beabsichtigte Prozess hohe Partialdrücke von O₂verwendet werden?

Siliciumcarbid-beschichtetes Graphit (SiCg) Heizelement

Nein – SiCg Heizelement auswählen

Standard Heizelement. Nicht für oxidierende Atmosphären empfohlen, da sich das Heizelement im Laufe der Zeit verschlechtert.

Festes Siliciumcarbid (sSiC) Heizelement

Ja / Ich weiß es nicht – sSiC Heizelement auswählen

Optionales Heizelement. Empfohlen für den Einsatz in oxidierenden Atmosphären.

Ist eines der folgenden Materialien mit Ihrem Prozess nicht kompatibel?
(Markieren Sie alle zutreffenden)

Keine

Tantal

Kupfer

Molybdän

Aluminium

Edelstahl

Inconel

Durch Anklicken dieses Feldes erklären Sie sich mit unserer Datenschutzerklärung einverstanden.

CAPTCHA

Tragen Sie Ihre Antwort hier ein
*

Was ist die Anwendung?
Welche Substratmaterialien werden Sie verwenden?
Wie hoch ist der End(Basis-)Druck der Prozesskammer?
Auf welche maximale Temperatur und bei welchem Druck möchten Sie das Substrat im Vakuum heizen?
Wie lange wollen Sie diese Temperatur aufrechterhalten?

Vor- und Nachname:	Position	Organisation:
E-Mail:	Telefon:	Fax:
Straße:	Ort:
Land:	Bundesland/Region:	Postleitzahl:	Sind Sie schon Kunde bei KJLC?

	Gas	Partialdruck (mbar oder torr)	Temperatur	Dauer
1.
2.
3.
4.
5.
6.

Fragebogen Epicentre Probenstation

Auswahl von EpiCentre Bühnen

1. Welche Serie bevorzugen Sie?

EC-I In-line Design

EC-R rechtwinkliges Design

2. Bühnenausrichtung

3. EC-I Montageflansch erforderlich

4. EC-I Substratgröße

EpiCentre Konfiguration & Optionen

EC-I Konfiguration

5. Substratvorspannung

6. Substratrotation

7. Substratrotationsgeschwindigkeit

8. Rotations-Controller

9. Halterung heben/senken, um den Probentransfer zu erleichtern

10. Halterungszielsensor

11. Wie werden Proben übertragen?

12. Depositionshöheneinstellung

13. Substratblende

14. Hitzeschilde

15. Depositionsbehälter

16. Thermoelement

2. EC-R Montageflansch

3. EC-R Substratgröße

EpiCentre Konfiguration & Optionen

EC-R Konfiguration

4. Polare (primäre) Rotation

5. Substratvorspannung

6. Substrat (Azimutal) Rotation

7. Substratrotationsgeschwindigkeit(wenn die Substratrotationsoption ausgewählt wird)

8. Rotations-Controller

9. Rotations-Zielsensor

10. Wie werden Proben übertragen?

11. Z-Verschiebe-Anpassung

12. XY-Bewegung

13. Thermoelement

EpiCentre Heizelementauswahl (erforderlich für EC-I- und EC-R-Serien)

Sollen im beabsichtigte Prozess hohe Partialdrücke von O2verwendet werden?

Siliciumcarbid-beschichtetes Graphit (SiCg) Heizelement

Festes Siliciumcarbid (sSiC) Heizelement

Temperaturregler & Netzgerät?

Anwendungsdetails (erforderlich für EC-I- und EC-R-Serien)

Was ist die Anwendung?

Welche Substratmaterialien werden Sie verwenden?

Wie hoch ist der End(Basis-)Druck der Prozesskammer?

Auf welche maximale Temperatur und bei welchem Druck möchten Sie das Substrat im Vakuum heizen?

Wie lange wollen Sie diese Temperatur aufrechterhalten?

Wenn Gase oder Dämpfe an Ihrem Prozess beteiligt sind, füllen Sie bitte die folgenden Informationen aus:

Gas

Partialdruck(mbar oder torr)

Temperatur

Dauer

Ist eines der folgenden Materialien mit Ihrem Prozess nicht kompatibel?(Markieren Sie alle zutreffenden)

Zusätzliche Kommentare

Passende Produkte

Wünschen Sie weitere Informationen zu unserem Angebot an Artikel zum Probentransfer, einschließlich:

7. Substratrotationsgeschwindigkeit
(wenn die Substratrotationsoption ausgewählt wird)

Sollen im beabsichtigte Prozess hohe Partialdrücke von O₂verwendet werden?

Partialdruck
(mbar oder torr)

Ist eines der folgenden Materialien mit Ihrem Prozess nicht kompatibel?
(Markieren Sie alle zutreffenden)