Mini SPECTROS – Dünnschichtdepositions- und Metallisierungssystem für bis zu 100 mm x 100 mm Substrate

Optionen für HV-Pumpen

• Kryopumpe - Dieses Paket ersetzt die 790 L/sec Turbopumpe im Basissystem durch eine CTI-8F 1500 L/sec Kryopumpe. Der Basisdruck für eine ordnungsgemäß konditionierte Kammer ist 5,3 x 10^-8 torr (6,67× 10^-8 mbar).
• Trockene Pumpe - Edwards nXDS10i - 7,5 cfm (12,7m³/hr) Schnecken-Schrupppumpe.
• Trockene Pumpe - Edwards XDS35i - 25 cfm (43m³/hr) Scroll-Schrupppumpe.

HV-Ventile

• 3-Positionen VAT-Schieberventil für CTI-8F 1500L/s Kryopumpe
• 3-Positionen VAT-Schieber für Pfeiffer 790 L/sec Turbo
• VAT Variable Position nach dem Druckregelventil

Niedertemperaturverdampfungsquelle (bis zu vier)

• 1cc und 10cc Quellen
• Einzigartiges Plugin-Design
• Leicht nachfüllbar und wartungsfreundlich
• Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.
• KJLC 10cc und 1cc (Niedertemperaturverdampfung) Quelle, geeignet für organische und Niedertemperaturmaterialien (0-550°C)

Thermische Verdampfungsquelle (bis zu vier)

• KJLC Thermische Verdampfungsanordnung (TE), Bis zu vier 4" thermische Verdampfungsquellen (in sequentieller oder Co-Deposition-Konfiguration)
• KJLC Thermische Verdampfungsanordnung (TE), Bis zu sechs 2" thermische Verdampfungsquellen (in sequentieller Konfiguration)
• Standard-Thermoversorgung (5v@ 375A)
• Optionen für hohe Ausgangsleistungen (5v@900A)
• Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.

Magnetron-Sputterquelle Netzgeräte (bis zu fünf)

• 500 W und 1 kW und 1,5 kW KJLC® DC Netzgeräte
• 300W und 600W KJLC HF-Netzgeräte
• 2 kW (gepulste) Gleichspannungsnetzgerät
• Der Quarzkristall-Monitor ist mit Sputteroptionen erhältlich.

Torus® Magnetron-Sputterquellen (bis zu sechs)

• Bis zu sechs KJLC Torus® 2" oder 3" Magnetron-Sputterquellen. Optionen für Flexkopfanordnung und hochfeste Magnetanordnung verfügbar.
• Bis zu vier KJLC Torus® 4" Magnetron-Sputterquellen. Flexkopfanordnung und hochfeste Magnetanordnungen optional erhältlich

Für weitere Informationen über unsere neuen Mag Keeper-Quellen besuchen Sie bitte den folgenden Link.

Elektronenstrahlverdampferquellen

• KJLC KL6, vier Taschen (8cc) Elektronenstrahlquelle
• KJLC KL8, acht Taschen (12cc) oder sechs Taschen (20cc) Elektronenstrahlquelle
• 5 kW oder 10 kW Halbleiter-Netzteil mit programmierbarem Sweep und automatischer Tiegelindizierung

Standard-Substrathalterungen

Vordruckregelung

• Bis zu vier Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitansmanometer

Reaktive Depositionen

• Ein Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitansmanometer
• Bis zu drei Fujikin FCST1000F Massenflussregler für ein reaktives Gas.
• Substrat-Gasring ist verfügbar

Pumpen:

Das Mini SPECTROS bietet zwei Arten der Hochvakuumpumpen an seiner Prozesskammer: eine Pfeiffer 790 l/s Turbomolekularpumpe als Standard oder eine optionale Brooks CTI-8F 1500 l/s Kryopumpe. Beide Pumpen sind optional für jede der Depositionskonfigurationen des Mini SPECTROS erhältlich. Die Pfeiffer 790 L/s ist eine gute Wahl für kostengünstige, qualitativ hochwertige Pumpen, insbesondere für Niedertemperatur- und Thermoverdampfungsanlagen. Der Brook CTI-8F wird in Anwendungen eingesetzt, die ein möglichst geringes Vakuum erfordern, insbesondere für die thermische Verdampfung und Elektronenstrahlanwendungen.

Die nebenstehende Grafik zeigt die durchschnittlich erwartete Pumpenleistung für eine ausgestattete Mini-SPECTROS-Prozesskammer, die sauber und trocken ist mit (3) Torus 3" und installierten Magnethalterquellen und eine 3' lange 1,5" Metallflexbalg-Schrupplinie.

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Kennlinien für ein sauberes, trockenes und leeres Mini-SPECTROS. Die Pumpenleistung ist abhängig von den Kammerbedingungen und den installierten Komponenten.

Das Mini-SPECTROS wurde neu konzipiert, um das Hochvakuumventil ohne den 4" Halbnippel direkt an der Prozesskammer zu montieren und beherbergt nun einen größeren 790 l/s Pumpe oder CTI8 Pumpe. This allows the Mini SPECTROS to reach lower base pressures and faster pumpdown times than similarly equipped systems.

Deposition:

Torus^®-Quellen werden mit typischen Sputterdrücken (< 20 mTorr) betrieben und verwenden Si-Wafer zur Deposition. SiO₂ Targetlauf mit HF-Leistung, Schichtdicke >=500Å. Al Target läuft mit Gleichstrom, Schichtdicke >=1500Å. Ni Target läuft mit hochfestem Torus^® und Gleichstrom, Schichtdicke >=1500Å.

KJLC Elektronenstrahl- Depositionsläufe verwenden Si-Wafer zur Deposition. Ti-Verdampfungsmaterial mit Schichtdicke >=1500Å.

• Alle Schichten werden auf einem ordnungsgemäß kalibrierten Profilometer, Reflektometer oder Ellipsometer (falls vorhanden) gemessen.
• Die Messpunkte werden beginnend in der Mitte des Substrats und dann radial nach außen alle 0,5 Zoll (12,7 mm), nominal (Referenzfigur rechts), gemessen.
• Die Formel zur Berechnung der Uniformität lautet: ((Max - Min) / (2x Avg)) x 100% mit einem 0,2 Zoll (5 mm) Kantenausschluss.

KJLC Elektronenstrahlquellen sind auch so konzipiert, dass sie unnötige O-Ringe, Dichtungen und Durchführungen vermeiden, um die Abpumpzeiten zu verkürzen und hervorragende Basisdrücke zu erzeugen. Für die KJLC Elektronenstrahlquelle sind nur drei Durchführungen erforderlich und es gibt keine dynamische Wasser-Vakuum-O-Ring-Dichtung in dieser Ausführung, was das Risiko eines Wasserlecks in der Vakuumkammer erheblich reduziert.

Thermal evaporation sources typically centered on the substrate fixture have been moved to the outer edges of the fixture in the Mini SPECTROS to allow for better uniformities. Die Vorrichtungen ermöglichen eine Quellenanpassung von bis zu einem Zoll, um eine Optimierung für eine bestimmte Anwendung zu ermöglichen.

Das Mini SPECTROS ist eines der vielseitigsten Dünnschichtdepositionssysteme von Kurt J. Lesker, das Einzel- und Multitechnik-Depositionsoptionen wie LTE-Verdampfung, thermische Verdampfung, Magnetronsputtern (Torus) und einen Elektronenstrahl bietet.

Das Mini-SPECTROS enthält den KJLC Niedertemperatur-Verdampfer. Mit seinem einzigartigen Plugin-Sockel, der einen einfachen Zugang zum Nachfüllen des Tiegels und eine einfache Entnahme für Reinigung und Wartung ermöglicht.

Typische Depositionsuniformitäten

Nur KJLC bietet Mag-Keeper Sputterquellen mit Null-O-Ringen im Kathodenkörper und einem magnetisch gekoppelten Target an, um einfache Targetwechsel zu ermöglichen. Unser zum Patent angemeldetes Kühlbecken-Design ermöglicht den Betrieb bei Leistungsdichten ≥ 200 Watt/0,in2. Diese Kathode ist so konzipiert, dass sie bis zu einem 0,375" dicken Target gesputtert werden kann. Das hochfeste Design ist in der Lage, bis zu einem 0,125" dicken Fe Target mit 3" und 4" Kathoden oder 0,0625" dicken Fe Target mit 2" Mag-Keepers zu sputtern. Ohne Niederhalteklammer oder Dunkelraumabschirmung kann diese Kathode mit bis zu ≤ 1mTorr betrieben werden. Das einzigartige Dome-Verschlussdesign erübrigt die Notwendigkeit einer zusätzlichen Kreuzkontaminationsschirmung, die bei herkömmlichen Klapp- oder Schwenkverschlüssen erforderlich ist.

Klicken Sie hier, um mehr über Sputterraten und -homogenität herauszufinden.

KJLC® eKLipse™ Steuerungssoftware

Kurt J. Lesker Company^® eKLipse™ Controls Software wird auf allen KJLC-Plattformen eingesetzt. Die Plattform eKLipse™ steuert eine .NET-Anwendung, die auf einem Windows-PC für die Benutzeroberfläche und den Rezepteditor ausgeführt wird. Die Anlagenautomatisierung erfolgt über einen eigenständigen Echtzeit-Controller.

Rezepte

• Graphical Recipe Builder – Erstellen Sie ganz einfach Rezepte, indem Sie auf die gewünschte Komponente klicken und die Attribute dieses Elements festlegen.

• Scripted Recipe Builder – Ein traditionellerer „scripted“ Rezepteditor zeigt mehr Details zum Setzen oder Überprüfen des Wertes einer Systemkomponente während eines Prozesses.

• Echtzeit-Controller – Das System arbeitet unabhängig vom Windows-Softwarepaket und setzt das Rezept bei einer Fehlfunktion der Software/des Computers fort.
• Unabhängige thermische Verdampfung Dünnschicht-Steuerung – Es gibt keine Software von Drittanbietern, die einen „Handshake“ oder „Handoff“ zwischen der Software des Systemherstellers und der Software des Dünnschichtreglers erfordert.

Unbegrenzte Rezepte, (import- und exportfähig)

• Unbegrenzte Anzahl von Rezepten mit Funktionen der Benutzersicherheitsstufe
• Rezept-Import-/Exportfähigkeit (zum Übertragen von Rezepten zwischen ähnlich ausgestatteten Werkzeugen)
• Jeder Rezeptschritt kann so konfiguriert werden, dass der Benutzer einen Wert ändern und Prozessbedingungen ändern kann, ohne das Planungsrezept zu beeinflussen. Zum Beispiel kann das Rezept zum Zeitpunkt der Ausführung den Benutzer zur Eingabe der gewünschten Schichtdicke oder Leistungseinstellung auffordern.

• Einheitliche Benutzererfahrung über alle Depositionstechniken und KJLC-Plattformen (Sputter, Thermal, EBeam, ALD) hinweg.
• Mehrkammer- und Multi-PC-Steuerung für Cluster-Tools

Benutzerdefinierter Diagrammschreiber und Datenaufzeichnung

• Benutzerdefiniertes Diagramm mit bis zu 10 gleichzeitigen Diagrammen
• Der Diagrammschreiber kann verwendet werden, um einen beliebigen Schaltpunkt oder Rückführparameter anzuzeigen.

• Automatische Protokollierung der einzelnen Rezeptschritte für alle Rezepte
• Kartendaten und Konfiguration können gespeichert werden

• Grafische Auswahl der aufzuzeichnenden Signale

• Benutzerdefinierte Wartungszähler sind für jede Komponente verfügbar
• Regelmäßige Wartungsverriegelungen und Rezeptprüfungen können für jeden Wartungszähler konfiguriert werden
• Sputter Target kiloWatt*Stunden- und kundenspezifische Materialverbrauchsverfolgung

Benutzersicherheit

• Unterstützt mehrere Benutzerkonten und Passwortebenen mit benutzerdefiniertem Sicherheitszugang für Rezepte und Bildschirme.
• Der Zugriff auf den Software-Bildschirm kann pro Benutzer angepasst werden
• Rezeptbearbeitung und manuelle Bedienfunktionen können benutzerbezogen zugeordnet werden;
• Benutzer mit vollem Zugriff haben die Möglichkeit, Rezepte und Steuerverriegelungen zu bearbeiten. Benutzer mit eingeschränktem Zugriff sind auf die Ausführung bestimmter Rezepte beschränkt und haben keine Kontrolle über Verriegelungen.
• Jedes Kontrollobjekt kann einer Standard-Benutzersicherheitsstufe zugeordnet werden.
• Der individuelle Zugriff auf den Bildschirm kann jedem Benutzer separat zugeordnet werden.

• Das Systemereignisprotokoll erfasst alle An- und Abmeldeereignisse der Benutzer, alle ausgeführten Rezepte und Systemstatusmeldungen.
• Die Verriegelung von Vakuum- und Depositionsanlagen ermöglicht eine kontinuierliche Überwachung des Systemstatus und schränkt gleichzeitig die nicht genehmigte Systemnutzung ein (kein Abschalten des Systembildschirms oder PCs erforderlich).

Fernwartungsdienstprogramm und Anwendungen

• Kundenspezifische Version von TeamViewer ermöglicht Fernwartung (kostenlose Android- und IOS-Anwendungen)
• Die Fernverbindung unterstützt die Systemüberwachung und -steuerung sowie die Dateiübertragung.

• Mini SPECTROS

• Brooks CTI8F Kryopumpe
• Edwards nXDS10i Schneckenpumpe

• KJLC® KL6 Elektronenstrahlquelle
• KJLC TORUS LTE Verdampfungsquelle

• KJLC RF03 Netzgerät
• KJLC RF06 Netzgerät

• Imperial College of London's Study
  Überprüft den Einfluss der Co-Deposition auf die Leistung von CuPc/C₆₀ Heteroübergangs-Photovoltaikzellen mit unserem SPECTROS-System.