Plattform Dünnschichtdepositionssystem
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NANO 36™ – Affordable, Compact Sputtering or Thermal Evaporation Thin Film Deposition System
Deposition Techniques Offered:
- Niedertemperatur-Verdampferquellen
- Thermisches Verdampfen
- Magnetron-Sputtern
- Mehrere Verfahren
Übersicht
The Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ is our optimized, entry level deposition system. Our chamber design is uniquely suited for glovebox integration. With increased capabilities and a smaller footprint, the NANO 36 provides an accessible price point while maintaining the quality you expect from KJLC.
The NANO 36 is compatible with the following deposition techniques:
- Thermische Verdampfung (bis zu vier 2" Schiffchenbaugruppen)
- Torus® Magnetron-Sputterquellen (bis zu drei 2" oder 3" Quellen)
- 1cc oder 10cc LTE Organische Depositionsquellen (bis zu vier)
- Kombination von zwei thermischen und zwei LTE-Quellen
- Kundenspezifische Konfigurationen sind auf Anfrage möglich
Die Software von KJLC ermöglicht eine benutzerfreundliche Rezepterstellung zusammen mit einem zuverlässigen, unterbrechungsfreien Verarbeitungsmodul, das den Prozessabschluss unabhängig vom Zustand der Computeroberfläche ermöglicht. Weitere Informationen zu diesem intuitiven, einzigartigen und zuverlässigen Softwarepaket finden Sie unter Software Tab.
Merkmale
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Prozesskammer
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Vakuumpumpen und Messungen
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SicherheitVollständig geschlossenes System-Elektronikgehäuse.
*Systemabmessungen und Montage abhängig von den gewählten Optionen. |
QualitätDie Verwendung branchenführender Komponenten ermöglicht es KJLC, die hochwertigste PVD-F&E-Anlage auf dem Markt zu produzieren. Komponenten und wichtige Fertigungspunkte sind:
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Optionen
Pumpoptionen
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HV-Ventile
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Optionen für Prozessausrüstung
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Niedertemperaturverdampfungsquelle (bis zu vier)
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Thermische Verdampfungsquelle (bis zu vier)
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Niedertemperatur-Verdampfungsquellen (bis zu zwei) und thermische Verdampfungsquellen (bis zu zwei)
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Torus® Magnetron-Sputterquellen (bis zu drei)
Für weitere Informationen über unsere neuen Mag Keeper-Quellen besuchen Sie bitte den folgenden Link. |
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(Bis zu drei) Netzgeräte
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Substratoptionen
Substrate
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The Nano 36 is designed to allow the use of square substrates 100 mm x 100 mm or smaller and round substrates up to 150 mm diameter or smaller. Die Substratplatte nimmt Substrate unterschiedlicher Größe unter Verwendung einer KJLC-Multisite-Vorrichtung und Substratclips auf. Kundenspezifische Substrat-/Maskenhalter sind auf Anfrage erhältlich. Zu den Standard-Substratbefestigungsoptionen gehören:
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Vordruckregelung
Reaktive Depositionen
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Glovebox Adapter
The Nano 36 is now easily integrated with a glove box. The process chamber features spring-loaded, pendulum style, full-access, aluminum doors. Dieses neue Kammerdesign macht das Öffnen und Schließen der Kammertür im Inneren der Glovebox zu einem Kinderspiel und bietet gleichzeitig einen schnellen und einfachen Zugang zu Ihren Substrathalterungen und Depositionsquellen. Wir haben auch eine Hintertüroption für integrierte Systeme in der Kammer entwickelt, um den Zugang zur Kammer zu ermöglichen und gleichzeitig die Integrität der Glovebox zu gewährleisten.
Kurt J Lesker is able to offer a wide array of standard and custom glovebox suites, from a standard 4 port or 6 port arrangement, to custom lengths and depths.
Glovebox Spezifikationen
- All stainless steel construction of the glovebox
- Specifically designed to integrate with KJL deposition system
- All stainless steel Swagelok valves, fittings and piping
- Modular design (for easy expansion)
- Lexan front window
- Quick release front window
- Electrical feedthrough with a six (6) outlet power strip
- LED light fixtures
- All stainless steel antechamber; size 15" diameter x 24"L with sliding tray
- Shock assisted door lifting mechanisms
- All stainless steel mini antechamber; size 8" diameter x 15"L
- Stainless steel stand with leveling feet and casters
- Stainless steel vacuum gauges
- Adjustable bin storage unit (adjustable shelving)
- Spare KF40 feedthroughs
- Two (2) HEPA gas flow filters; one (1) inlet, one (1) outlet
- Push button evacuation and refill of antechamber
- All stainless steel 24V DC solenoid valve for refill of antechamber
- Automatic electro-pneumatic valve for evacuation of the antechamber (KF40)
- Common vent line
- Stainless steel filter column for the removal of oxygen and moisture including automatic electro-pneumatic valves (KF40 size)
- Fully automatic system with Siemens PLC control unit and 7" color touch screen with built in operating instructions and system diagnostics. Enthält:
- O2, H20 and pressure trending
- Maintenance alarms
- Power saver mode for vacuum pump/lights (optional)
- Automatic regeneration process using 3-5% hydrogen gas mixture
- Capable of removing 36 liters of oxygen from inert gas before needing a regeneration
- Capable of removing 1300 grams of moisture from inert gas before needing a regeneration
- Continuous oxygen monitoring
- Continuous moisture monitoring
- Includes 50 cfm circulation blower
- Built for continuous operation
- Manual solvent removal system including stainless steel filter column, 10lbs of activated carbon, manual bypass and isolation valves, evacuation and refill valves, and refill drain port (optional)
- Automatic solvent removal system including stainless steel filter column with 20lbs of molecular sieve, automatic bypass and isolation valves with automatic reactivation of filter material (optional)
- Automatic purge valve-200 L/min flow rate
Glovebox Optionen
Neben den Gloveboxen und Systemadapterboxen kann folgendes Zubehör mitgeliefert werden:
- Schleuderanlagen
- Heiße Platten
- UV-Ozonhärtung
- Regenerierbares Lösungsmittel-Reinigungssystem
- Weiteres Zubehör auf Anfrage
Pumpen:The NANO 36 offers a Pfeiffer 260 L/s turbomolecular pump and KJLC RV206 oil sealed rough pump as standard components with an option to select an Edwards nXDS6i - 3,6 cfm (6,2 m3/hr) Scroll roughing pump. Base pressure specification for the NANO 36 is 9 x 10-7 Torr. |
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Deposition:The Nano 36 offers single and multi-technique deposition options (Thermal + LTE only) including thermal evaporation and magnetron sputtering (Torus). |
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Nur KJLC bietet Mag-Keeper Sputterquellen mit Null-O-Ringen im Kathodenkörper und einem magnetisch gekoppelten Target an, um einfache Targetwechsel zu ermöglichen. (Ein entscheidender Faktor beim Wechsel eines Targets durch eine Glovebox!) Unser zum Patent angemeldetes Kühlbecken-Design ermöglicht den Betrieb bei Leistungsdichten ≥ 200 Watt/0,in2. Diese Kathode ist so ausgelegt, dass sie bis zu einem 0,375" dicken Target auf der 3" Kathode und bis zu einem 0,250" dicken Target auf der 2" Kathode gesputtert wird. Das hochfeste Design ist in der Lage, bis zu einem 0,125" dicken Fe Target mit 3" Kathoden oder 0,0625" dicken Fe Target mit 2" Mag-Keepers zu sputtern. Ohne Niederhalteklammer oder Dunkelraumabschirmung kann diese Kathode mit bis zu ≤ 1mTorr betrieben werden. Das einzigartige Dome-Verschlussdesign erübrigt die Notwendigkeit einer zusätzlichen Kreuzkontaminationsschirmung, die bei herkömmlichen Klapp- oder Schwenkverschlüssen erforderlich ist. Klicken Sie hier, um mehr über Sputterraten und -homogenität herauszufinden. |
Architektur-Übersicht
KJLC® eKLipse™ SteuerungssoftwareKurt J. Lesker Company® eKLipse™ Controls Software wird auf allen KJLC-Plattformen eingesetzt. Die Plattform eKLipse™ steuert eine .NET-Anwendung, die auf einem Windows-PC für die Benutzeroberfläche und den Rezepteditor ausgeführt wird. Die Anlagenautomatisierung erfolgt über einen eigenständigen Echtzeit-Controller. |
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Rezepte
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Unbegrenzte Rezepte, (import- und exportfähig)
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Benutzerdefinierter Diagrammschreiber und Datenaufzeichnung
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Benutzersicherheit
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Fernwartungsdienstprogramm und Anwendungen
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Mediengalerie
Fotogalerie
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Downloads und Dokumente
Hier finden Sie Informationen zu den wichtigsten Komponenten, zur Raumplanung und zur Vorbereitung der Baustelle für Ihr Produkt.
Datenblätter und Komponentenlisten
NANO 36 DatenblattHelpful Material Resources
Materials Overview
Our Materials Division stocks a vast assortment of high purity materials, evaporation sources, and crucible liners for use in both thermal and E-beam evaporation as well as sputter deposition processes. Wir bieten reine Elemente, Verbindungen, Legierungen, Keramiken, intermetallische Verbindungen und Mischungen in einer Vielzahl von Formen, Größen und Reinheiten sowohl für FuE als auch für Produktionsanwendungen an. Jedes Sputtertarget und Aufdampfmaterial wird mit einem Analysezertifikat und SDS ausgeliefert. Wir bieten hausintern auch das Bonden von Targets an sowie einen Service zur Aufbereitung von Edelmetallen, was Ihnen Zeit und Geld spart.
Sputter-Targets
We manufacture a wide range of target materials designed to meet the demanding needs of both Production customers as well R&D customers needing a custom one off target. We are able to offer various purities, materials, sizes, and compositions. Our experienced in house bonding team is also able to provide high quality bonding services using KJLC or customer supplied backing plates. Many standard sizes and configurations available to ship directly from stock.
Aufdampfmaterialien
KJLC stocks a wide variety of evaporation materials in various sizes, shapes and quantities, available for immediate shipment. Das Werkstoffangebot ist umfassend, einschließlich von Reinmetall, Edelmetall, Standardlegierungen, Oxiden, Nitriden und Fluoriden. The materials can be packaged for the small quantity user, as well as, for the large volume production customer.
Edelmetalle
Our unique offering of precious metal products protects our customers from daily market price fluctuations by locking in the price on the day the order is placed. Inventory management tools allow us to stock a variety of precious metal products in standard target configurations, as well as, pellet, shot, and wire for evaporation. Shipments are packaged per order in the quantities our customers require, allowing them to purchase as much or as little as they need. Because of the high value of these materials we offer a convenient reclaim service for precious metal scrap. Credit is applied quickly to customer accounts which can be used to fund their next purchase. Kurt J. Lesker Company understands that these high cost materials require tight controls and close management. Our goal is to make precious metal purchases as easy as possible for our customers.
Thermische Quellen
As a complement to the extensive offering of evaporation materials, a wide range of thermal evaporation sources are available to our customers. Hundreds of boat sources with differing geometries and capacities make it easy to find a source that is ideally suited to coat numerous materials onto substrates of various configurations. Many materials prove troublesome for evaporation and may require a different style of evaporation source. In addition to boat sources, alternative sources such as filaments, baskets, box heaters, and heaters with crucibles may be the solution to evaporating these more difficult materials. A wide range of products are available to ship from stock with evaporation materials or as replacements.
Ceramic Materials Manufacturing
The Kurt J. Lesker Company continues to expand process capabilities in ceramic manufacturing to meet the evolving requirements for these demanding products. In-house powder synthesis capabilities, utilizing various chemical techniques, give us the ability to manufacture custom stoichiometries for both R&D and production material requirements. Proprietary mixing and sintering methods yield homogeneous, high density products ideally suited for PVD applications. Hot pressing is also utilized to enhance the variety of ceramics that can be offered.
Qualität
At the Kurt J. Lesker Company quality is our highest priority. Our ISO 9001 certification ensures that product quality is never compromised. All of our products undergo the requisite level of quality control inspection and all materials are shipped with a certificate of analysis and material safety data sheet. We employ numerous analytical techniques at various stages in the process to ensure that the products meet our quality standards and perform in the demanding applications which they are used.
Technischer Support
As a leading manufacturer of PVD equipment, we have quite a few technical resources within the organization. We are happy to help troubleshoot or offer advice on process related questions ranging from sputtering powers to crucible selection.
Wünschen Sie weitere Informationen?
Haben Sie noch Fragen? Klicken Sie unten, um mit einem unserer vielen erfahrenen Teammitglieder in Kontakt zu treten.
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