Atomlagendepositionssysteme
KJLC® bietet derzeit zwei hochmoderne Systeme für die Atomlagendeposition (ALD) an: das ALD150LX™ und das ALD150LE™. Da die Eigenschaften von Substraten immer feiner und komplexer werden, werden ALD-Techniken immer wichtiger, um die strengen Anforderungen an konforme, unverfälschte und qualitativ hochwertige Dünnschichten und deren Grenzflächen zu erfüllen. Beide Systeme sind ideal geeignet, um auch die anspruchsvollsten Herausforderungen der nächsten Generation 3D Nanotechnologie zu meistern.
Unsere ALD-Plattform zeichnet sich durch hochwertige, kompakte Konstruktionen aus, die extreme Flexibilität bieten und gleichzeitig die Zugänglichkeit und Wartungsfreundlichkeit der Systemkomponenten gewährleisten. Alle Systemkomponenten erfüllen höchste Qualitätsstandards, auch die Teile aus eigener Fertigung des Geschäftsbereichs Kammerbau.
ALD150LX™Designed for advanced research & development applications
- Konfiguration als rein thermische oder plasmaunterstützte Prozesskammer
- Einzigartiges Design mit patentierter Precursor-Focusing Technology™
- Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm mit einer unabhängigen Substratheizstation für den Betrieb bei 500 °C.
- Leistungsstarke, ferngesteuerte induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP) mit bis zu sechs Plasmagasleitungen.
- Für bis zu fünfzehn Precursorquellen mit vier separaten Kammereinlässen (ohne Plasma).
- Verschiedene Optionen für die Zuführung von Precursorn sind verfügbar, einschließlich Dampf-, Durchfluss- und gepulste Gaszufuhr.
- Als Expositionsmodi für die Precursor stehen zu Verfügung: dynamisch, statisch und der Variable Residence Mode™.
- Einzigartige Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit der beheizten Systemkomponenten.
- Analytische Ports zur Echtzeit-Prozessüberwachung mittels in-situ Ellipsometrie.
- Ozonquelle
- Glovebox, Load-Lock (Single- oder Multi-Wafer-Kassette) und Cluster-Tool-Konnektivität
- Echte Präzisions-ALD-Ventilsteuerung
- KJLC® eKLipse™ Systemsteuerungssoftware für höchste Prozessanforderungen
- Wartungsarme, servicefreundliche Kammerausführung
ALD150LE™Our most affordable ALD system designed specifically with entry to mid-level user in mind
- Konfiguration als rein thermische Prozesskammer
- Senkrechte Strömung, Duschkopfdesign für gleichmäßige Precursorverteilung und -zufuhr.
- Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm mit einer unabhängigen Substratheizstation für den Betrieb bei 500 °C.
- Für bis zu zehn Precursorquellen mit zwei separaten Kammereinlässen.
- Verschiedene Optionen für die Zuführung von Precursorn sind verfügbar, einschließlich Dampf-, Durchfluss- und gepulste Gaszufuhr.
- Als Expositionsmodi für die Precursor stehen zu Verfügung: dynamisch, statisch und der Variable Residence Mode™.
- Einzigartige Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit der beheizten Systemkomponenten.
- Ozonquelle
- Glovebox-Anschlussmöglichkeit.
- Echte Präzisions-ALD-Ventilsteuerung
- KJLC® eKLipse™ Systemsteuerungssoftware für höchste Prozessanforderungen
- Wartungsarmes, wartungsfreundliches Reaktordesign.