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Ultra High Vacuum Systems

LAB Line
CMS (Combinatorial Materials Science) Series

Ultrahochvakuum

Fully Bakeable

nicht verfügbar


Magnetron Sputtering Sources

12

6+


Elektronenstrahlquelle

nicht verfügbar

Multi Pocket, 5 kW or 10 kW Power Supplies


Platen

150 mm Substrates

  • Heating Up to 1000°C
  • Water-Cooling
  • RF Bias

200 mm Substrates

  • Heating Up to 1100°C
  • Water-Cooling
  • RF Bias

Schleusenkammer

Single or Multi-Cassette

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Software

Full eKLipse™ Control Software/Hardware Suite

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12

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  • Heating Up to 1000°C
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