ALD-150LE™
Our Most Affordable ALD System Designed Specifically with Entry to Mid-Level User in Mind

Prozesskammer

• Rein thermische Konfiguration
• Design der senkrechten Strömung
• Zwei separate Kammereinlässe für die Vorläuferzufuhr
• Offene Last (bis zu 150 mm Substrate)
• Unabhängige Substratheizstufe

Vorläufer

• Bis zu 13 Vorläuferquellen mit zwei separaten Kammereinlässen
• Verschiedene Optionen für die Zuführung von Vorläufern sind verfügbar, einschließlich Dampfabzug, Durchfluss und gepulste Gaszufuhr
• Die Belichtungsmodi umfassen dynamische, statische und variable Residenz Mode™
• Ozonquelle

Typische Prozesse

• Al₂O₃, TiO₂, SiO₂, Ta₂O₅, HfO₂, ZrO₂, HZO, ZnO, AZO, AIN, TiN, GaN, Pt und Ru

Substratübertragung

• Manuelles Laden
• Glovebox

Systemheizung

• Unabhängige Substrate mit einer unabhängigen Substratheizstufe für den Betrieb bei 500°C.
• Prozesskammer und Vorläufer-Förderleitung erwärmen auf 250°C
• Vorläuferheizung bis zu 200°C
• Aufheizen der Versorgungsleitung bis zu 250°C
• Bis zu 200°C Ventilerhitzung

Software & Steuerungen

• KJLC® eKLipse™ Systemsteuerungssoftware (LabView-basiert)
• Echtzeitsteuerung
• Echte Präzisions-ALD-Ventilsteuerung

Prozesspumpe

• Drehschieberpumpe (>14 cfm) mit Vorlaufspülung/Entlüftungsschutz und Ölfiltration
• Trockenpumpe
• Kundenseitige Prozesspumpe

Das ALD150LE™ ist für rein thermische ALD konfiguriert, und unser einzigartiges Design mit senkrechter Strömung ermöglicht eine isolierte, gleichmäßige Vorläuferzufuhr mit reduzierten Hintergrundverunreinigungen für eine verbesserte Filmqualität. Um unerwünschte Materialanhaftungen und Partikelbildung in den Förderkanälen zu vermeiden, stehen zwei separate Kammereinlässe zur Vorläuferisolierung zur Verfügung. So können beispielsweise separate Einlässe verwendet werden, um metallorganische Vorläufer und Reaktionspartner zu isolieren, um Ablagerungen in Förderleitungen und Ventilen zu verhindern.

• Zwei separate Eingänge für die Vorläuferzufuhr, um unerwünschte Anhaftungen in den Zuführkanälen zu verhindern.
• Offene Lastkammer, die so konstruiert wurde, dass Hintergrundverunreinigungen durch Ausgasung und Permeation der Dichtung minimiert werden.
• Unabhängige Substratheizstufe und Außenkammergehäuse für exzellente Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit
• 304L-Edelstahlkonstruktion
• Zugängliches, wartungsarmes Design

Das Open-Load-Design von ALD150LE™ ermöglicht die manuelle Platzierung von Substraten (bis zu 150 mm Durchmesser) direkt auf der Substratheizstufe während der Probenzuführung. Bei der anschließenden ALD-Verarbeitung bildet die zentralisierte Vorläuferzufuhr und -pumpung eine Barriere, die Verunreinigungen aus den nachgeschalteten Kammerdichtungen von der Reaktionszone fernhält. Die strategische Positionierung der Elastomer-Kammerdichtungen hält Verunreinigungen (durch Ausgasung und Permeation der Dichtung) von den Substratoberflächen fern und verbessert die ALD-Filmqualität. Dies ist insbesondere ein wichtiges Merkmal, um hochwertige Nitridschichten in offener Kammerbauweise zu erhalten.

Vorläuferlieferung

Das Basissystem ALD150LE™ beinhaltet zwei beheizte Dampfabzugsmodule aus einer Quelle mit zwei separaten Kammereinlässen (zur Vermeidung unerwünschter Anhaftungen in Förderleitungskomponenten), die im dynamischen oder statischen Belichtungsmodus arbeiten. Für die gesamte Bandbreite der derzeit verfügbaren Lieferoptionen für Vorläufer finden Sie weitere Informationen auf der Registerkarte Optionen.

Heizung

Das ALD150LE™ verfügt über eine hervorragende Heiz- und Temperaturregelung, die unser einzigartiges Senkrechtdesign ergänzt, indem sie die Gesamtleistung des Systems weiter verbessert. Insbesondere die Temperaturgleichmäßigkeit und -regelung trägt dazu bei, unerwünschte Vorläufer-Kondensation zu verhindern, die zu parasitären Effekten führt, die die Filmqualität und die Sauberkeit der Kammer beeinträchtigen.

Obere Temperaturgrenzen für beheizte Systemkomponenten sind wie folgt:

• Substratheizstufe 500°C
• Kammer- und Vorläufer-Förderleitungen 250°C
• Vorläufer und Druckventile 200°C
• Aufheizen der Versorgungsleitung bis zu 250°C
• Bis zu 200°C Ventilerhitzung

Unser einzigartiges Heizungsdesign kombiniert mit unabhängigen Heizzonen für Vorläufer, Förderventile und -leitungen, Prozesskammer (mehrere Zonen), Substratheizung sowie Foreline-Komponenten bieten eine beispiellose Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit der beheizten Systemkomponenten.

Optionen für die Lieferung von Vorprodukten

Mit bis zu zehn Vorläuferquellen, die vier separate Kammereinlässe nutzen, bietet das ALD150LE™ extreme Prozessflexibilität. Es ist eine Vielzahl von Lieferoptionen für Gas-, Flüssig- und Festphasenvorläufermodule erhältlich, darunter Dampfabzug, Durchfluss und gepulste Gaszufuhr. Eine vollständig integrierte Ozonversorgungsoption ist ebenfalls erhältlich. Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen über unsere Ozonoption.

Für Lieferoptionen, die eine Beheizung erfordern, bieten unsere einzigartigen Heizungsdesigns in Kombination mit unabhängigen Heizzonen für Vorläufer, Druckventile und Leitungen eine beispiellose Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit. Hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit und -regelung trägt dazu bei, unerwünschte Vorläufer-Kondensation zu verhindern, die zu parasitären Effekten führt, die die Filmqualität beeinträchtigen und die Sauberkeit der Kammer beeinträchtigen.

Zu den Vorläufer-Expositionsmodi gehören der dynamische, statische und variable Residenz Mode™. Dynamische und statische Modi sind Standard; Variable Residence Mode™ ist optional. Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen über unsere Option Variable Residenz Mode™. Die modulare, skalierbare Konstruktion ALD150LE™ bietet eine Vielzahl unterschiedlicher Konfigurationen, einschließlich zukünftiger Erweiterungen und Upgrades.

Dampfabzugsmodule mit einer Quelle und mehreren Quellen

Dampfabzugsquellen sind ideal für Flüssig- und Festphasenvorläufer mit ausreichendem Dampfdruck, so dass sie keine besondere Unterstützung für eine effektive Dampfabgabe außer der Erwärmung benötigen. Das Basissystem ALD150LE™ beinhaltet zwei beheizte Dampfabzugsmodule aus einer Hand mit zwei separaten Kammereinlässen (Standardausstattung).

• Optionales Dampfabzugsmodul mit mehreren Quellen (ersetzt eines der Basis-Module aus einer Quelle)
• Das Dampfabzugsmodul mit mehreren Quellen kann bis zu fünf Dampfabzugsquellen beinhalten.
• Vorläufer- und Druckventilheizung werden unabhängig voneinander bis zu 200°C gesteuert.
• Die Versorgungsleitungen werden unabhängig voneinander auf 250°C geregelt.
• Dampfabzugsmodule mit präziser ALD-Ventilzeitsteuerung für eine optimale Dosierung der Vorläuferdosis.

Durchfluss-Dampfabgabemodul

Für Flüssig- und Festphasenvorläufer mit unzureichendem/niedrigem Dampfdruck bieten Durchflussquellen eine verbesserte Dampfabgabe. Unser einzigartiges, modulares Durchflusskonzept bietet zusätzliche Flexibilität für eine fortschrittliche Niederdampfdruckversorgung und unterstützt sowohl Durchfluss- als auch Dampfabzugsmethoden. Die ALD150LE™ kann bis zu zwei Durchflussmodule aufnehmen.

• Vollständig geschlossener Ofen oder unabhängig beheizte Vorläuferzylinderkonfigurationen
• Vorläufer- und Abgabeventilheizung unabhängig gesteuert bis zu 200°C (Ofenkonfiguration nicht vollständig unabhängig)
• Versorgungsleitungsheizung unabhängig geregelt auf 250°C
• Präzise ALD-Ventilzeitsteuerung für eine optimale Dosierung der Vorläuferdosis

Gepulste Gaszufuhr

Zu den gepulsten Gasoptionen gehört unser Abgabemodul Source™ (PGS™), das speziell für die präzise, genaue und schnelle Dosierung toxischer Gase (z. B. WF₆, HCl, NH₃, H₂S, etc.) entwickelt wurde. Das einzigartige KJLC®-PGS™-Design verwendet für die Vorstufendosierung ein festes Ladevolumen (oder Reservoir), wodurch für eine präzise und genaue Dosierung kein Massendurchflussregler benötigt wird. Zur Kontrolle der Menge des gelieferten Vorläufers werden die präzise ALD-Ventilsteuerung sowie der Reservoirdruck durch unsere Software- und Steuerungspakete eKLipse™ streng kontrolliert, um eine schnelle Dosierung mit Präzision und Genauigkeit zu ermöglichen. Das ALD150LE™ kann ein PGS™ Modul aufnehmen.

• Speziell entwickelt für die präzise und genaue Hochgeschwindigkeitsdosierung von toxischen Gasen (z. B. WF₆, HCl, NH₃, H₂S, etc.)
• Keine Massendurchflussregler mehr erforderlich
• Beinhaltet einen separaten Kanal zum Pumpen und Spülen der Komponenten der Eingangsleitung

Substrat-Transferoptionen

Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm werden manuell in die Atmosphäre (Standard) oder in ein Handschuhfach eingeführt, um eine saubere, inaktive Umgebung für die Handhabung zu schaffen (optional).

Standard:

• Manuelles Laden

Optional:

• Glovebox

Pumpen und Druckmessung

Die Standardpumpe für das ALD150LE™ ist eine Adixen™ (Pfeiffer®) Chemical Pascal Series 2021C1 (13cfm, Kohlenwasserstofföl) Drehschieberpumpe mit optionaler Vorlaufspülung/Entlüftungsschutz und Ölfiltration. Die Standardpumpe kann auch zu einer Drehschieberpumpe 2021C2 (13cfm, PFPE vorbereitet) mit optionalem Vorspül-/Entlüftungsschutz und Ölfiltration aufgerüstet werden. Eine Trockenpumpe mit Vorlaufspülung/Entlüftungsschutz sowie eine vom Kunden gelieferte Pumpe sind ebenfalls optional erhältlich. Ein erwärmtes (150°C) Kapazitätsmanometer misst den Prozesskammerdruck.

Standard:

• Adixen™ (Pfeiffer®) Chemical Pascal Series 2021C1 (13cfm, Kohlenwasserstofföl) Drehschieberpumpe
• Beheiztes (150°C) Kapazitätsmanometer zur Messung des Prozesskammerdrucks

Optional:

• Adixen™ (Pfeiffer®) Chemical Pascal Series 2021C2 (13cfm, PFPE vorbereitet) Drehschieberpumpe
• Vorspülung / Entlüftungsschutz
• Ölfiltration
• Trockene Pumpe (optional) mit Vorlaufspülung / Entlüftungsschutz
• Kundenseitige Pumpe