Plattform Dünnschichtdepositionssystem
Mini SPECTROS
Deposition & Metallization System up to 100 mm x 100 mm Substrate
Das Kurt J. Lesker Company® Mini SPECTROS™ ist das Dünnschichtabscheidungssystem der nächsten Generation auf Basis der SPECTROS-Plattform. Mit mehr als 100 Einheiten, die weltweit im Einsatz sind, ist die SPECTROS-Plattform ein bewährtes, robustes und vielseitiges Design. Das Mini SPECTROS baut auf den Erfolgen des ursprünglichen Designs mit verbesserten Systembasisdrücken und Stillstandszeiten auf. Ein technisch überlegenes Kammerdesign, das branchenweit beste Softwaresteuerungssystem mit erweiterter Programmierfähigkeit, die Echtzeit-Rezeptfadenbedienung und zahlreiche Funktionen zur Optimierung der Dünnschichtleistung sind nur einige der wichtigsten Vorteile dieses innovativen, erstklassigen Designs.
Der Mini SPECTROS™ ist mit den folgenden Techniken kompatibel:
- 1cc oder 10cc LTE-Quellen (bis zu 4 Quellen zusätzlich zu thermischen Quellen)
- 4" Wärmequellen (bis zu 4 Quellen zusätzlich zu LTE Quellen)
- TORUS® Magnetron Sputtering sources (up to six 2" or 3" sources)
- Elektronenstrahl-Verdampfungsquelle (4Tasche 8cc, 8 Tasche 12cc, 6 Tasche 20cc)
- Kombinationen der oben genannten Techniken sind ebenfalls möglich.
- Kundenspezifische Konfigurationen sind auf Anfrage möglich
Die Software von KJLC ermöglicht eine benutzerfreundliche Rezepterstellung zusammen mit einem zuverlässigen, unterbrechungsfreien Verarbeitungsmodul, das den Prozessabschluss unabhängig vom Zustand der Computeroberfläche ermöglicht. Weitere Informationen zu diesem intuitiven, einzigartigen und zuverlässigen Softwarepaket finden Sie unter Software Tab.
Modulare Prozesskammer
- Kastenförmige 304L Edelstahlkammer: 15,25" wide x 16,50" deep x 24" high (387,4 mm wide x 419,1 mm deep x 609,6 mm high), internal dimensions
- Diese Kammer ist standardmäßig mit bis zu zehn freien Anschlüssen (2-3/4" CF) ausgestattet, je nach Systemkonfiguration.
- Informationen zu Pumpdown-Zeiten und Basisdrücken finden Sie auf der Registerkarte Leistung (oben).
Sicherheit
Vollständig geschlossenes System-Elektronikgehäuse.
- Kompakter Rahmen, 53,41" breit x 36,18" tief x 75,75" hoch (1356,7 mm breit x 919 mm tief x 1924,1 mm hoch)
- Allows all electrical components to be safely housed behind lockable cabinet doors
- EMO-Schutz ist bei allen KJLC-Systemen Standard.
- Isolation transformer and safety interlocks are standard on all KJLC systems
*System dimensions and mounting dependent on options selected
Vakuumpumpen und Messungen
- Pfeiffer 790 L/s Turbomolekularpumpe mit einer KJLC RV212 ölgedichteten Schrupppumpe. Base pressure for a properly conditioned chamber is 2 x 10-7 torr (2,67 - 10-7 mbar).
- Weitbereichsmessgerät liest von Atmosphäre bis 10-9 Torr.
Qualität
Die Verwendung branchenführender Komponenten ermöglicht es KJLC, die hochwertigste PVD-F&E-Anlage auf dem Markt zu produzieren. Komponenten und wichtige Fertigungspunkte sind:
- Ein Jahr Standard-Garantie
- Pfeiffer Turbomolekularpumpen
- CTI-Cryogenics® Kryopumpensysteme
- VAT Hochvakuumventile
- KJLC Niedertemperaturquellen
- Orbitalschweißen an allen Prozessgasleitungen / Verteilern
- Die CE-Kennzeichnung ist Standard auf den Mini-SPECTROS mit CSA und NRTL, die auf Anfrage erhältlich sind.
PUMPING PERFORMANCE
Das Mini SPECTROS bietet zwei Arten der Hochvakuumpumpen an seiner Prozesskammer: eine Pfeiffer 790 l/s Turbomolekularpumpe als Standard oder eine optionale Brooks CTI-8F 1500 l/s Kryopumpe. Beide Pumpen sind optional für jede der Depositionskonfigurationen des Mini SPECTROS erhältlich. Die Pfeiffer 790 L/s ist eine gute Wahl für kostengünstige, qualitativ hochwertige Pumpen, insbesondere für Niedertemperatur- und Thermoverdampfungsanlagen. Der Brook CTI-8F wird in Anwendungen eingesetzt, die ein möglichst geringes Vakuum erfordern, insbesondere für die thermische Verdampfung und Elektronenstrahlanwendungen.
The chart to the right demonstrates average expected pumping performance by pump type for an outfitted Mini SPECTROS process chamber that is clean and dry with (3) TORUS 3" Mag-keeper sources installed and a 3' long 1,5" metal flex bellows roughing line.
Das Mini-SPECTROS wurde neu konzipiert, um das Hochvakuumventil ohne den 4" Halbnippel direkt an der Prozesskammer zu montieren und beherbergt nun einen größeren 790 l/s Pumpe oder CTI8 Pumpe. This allows the Mini SPECTROS to reach lower base pressures and faster pumpdown times than similarly equipped systems.
DEPOSITION PERFORMANCE
TORUS® sources are operated at typical sputtering pressures (< 20 mTorr) and utilize Si wafers for deposition. SiO2 Targetlauf mit HF-Leistung, Schichtdicke >=500Å. Al Target läuft mit Gleichstrom, Schichtdicke >=1500Å. Ni Target run with High Strength TORUS® & DC Power, film thickness >=1500Å.
KJLC Elektronenstrahl- Depositionsläufe verwenden Si-Wafer zur Deposition. Ti-Verdampfungsmaterial mit Schichtdicke >=1500Å.
- Alle Schichten werden auf einem ordnungsgemäß kalibrierten Profilometer, Reflektometer oder Ellipsometer (falls vorhanden) gemessen.
- Die Messpunkte werden beginnend in der Mitte des Substrats und dann radial nach außen alle 0,5 Zoll (12,7 mm), nominal (Referenzfigur rechts), gemessen.
- Die Formel zur Berechnung der Uniformität lautet: ((Max - Min) / (2x Avg)) x 100% mit einem 0,2 Zoll (5 mm) Kantenausschluss.
KJLC Elektronenstrahlquellen sind auch so konzipiert, dass sie unnötige O-Ringe, Dichtungen und Durchführungen vermeiden, um die Abpumpzeiten zu verkürzen und hervorragende Basisdrücke zu erzeugen. Für die KJLC Elektronenstrahlquelle sind nur drei Durchführungen erforderlich und es gibt keine dynamische Wasser-Vakuum-O-Ring-Dichtung in dieser Ausführung, was das Risiko eines Wasserlecks in der Vakuumkammer erheblich reduziert.
Thermal evaporation sources typically centered on the substrate fixture have been moved to the outer edges of the fixture in the Mini SPECTROS to allow for better uniformities. Die Vorrichtungen ermöglichen eine Quellenanpassung von bis zu einem Zoll, um eine Optimierung für eine bestimmte Anwendung zu ermöglichen.
Typische Depositionsuniformitäten
| Quellen | Wafergröße | Homogenität |
|---|---|---|
Nur KJLC bietet Mag-Keeper Sputterquellen mit Null-O-Ringen im Kathodenkörper und einem magnetisch gekoppelten Target an, um einfache Targetwechsel zu ermöglichen. Our "patent pending" cooling well design enables operation at power densities ≥ 200 watts/.in2. Diese Kathode ist so konzipiert, dass sie bis zu einem 0,375" dicken Target gesputtert werden kann. Das hochfeste Design ist in der Lage, bis zu einem 0,125" dicken Fe Target mit 3" und 4" Kathoden oder 0,0625" dicken Fe Target mit 2" Mag-Keepers zu sputtern. Ohne Niederhalteklammer oder Dunkelraumabschirmung kann diese Kathode mit bis zu ≤ 1mTorr betrieben werden. Das einzigartige Dome-Verschlussdesign erübrigt die Notwendigkeit einer zusätzlichen Kreuzkontaminationsschirmung, die bei herkömmlichen Klapp- oder Schwenkverschlüssen erforderlich ist.
Klicken Sie hier, um mehr über Sputterraten und -homogenität herauszufinden.
PUMPING OPTIONS
Optionen für HV-Pumpen
- Cryo Pump - This package replaces the 790 L/sec turbo pump in the base system with a CTI-8F 1500 L/sec cryo pump. Base pressure for a properly conditioned chamber is 5,3 x 10-8 torr (6,67 x 10-8 mbar).
- Trockene Pumpe - Edwards nXDS10i - 7,5 cfm (12,7m3/hr) Schnecken-Schrupppumpe.
- Dry pump - Edwards XDS35i - 25 cfm (43 m3/hr) Scroll roughing pump.
HV-Ventile
- 3-Positionen VAT-Schieberventil für CTI-8F 1500L/s Kryopumpe
- 3-Positionen VAT-Schieber für Pfeiffer 790 L/sec Turbo
- VAT Variable Position nach dem Druckregelventil
PROCESS EQUIPMENT OPTIONS
Niedertemperaturverdampfungsquelle (bis zu vier)
- 1cc und 10cc Quellen
- Einzigartiges Plugin-Design
- Leicht nachfüllbar und wartungsfreundlich
- Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.
- KJLC 10cc und 1cc (Niedertemperaturverdampfung) Quelle, geeignet für organische und Niedertemperaturmaterialien (0-550°C)
Thermische Verdampfungsquelle (bis zu vier)
- KJLC Thermische Verdampfungsanordnung (TE), Bis zu vier 4" thermische Verdampfungsquellen (in sequentieller oder Co-Deposition-Konfiguration)
- KJLC Thermische Verdampfungsanordnung (TE), Bis zu sechs 2" thermische Verdampfungsquellen (in sequentieller Konfiguration)
- Standard-Thermoversorgung (5v@ 375A)
- Optionen für hohe Ausgangsleistungen (5v@900A)
- Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.
TORUS® Magnetron Sputtering Source (Up to Six)
- Up to six KJLC TORUS® 2" or 3" magnetron sputtering sources. Optionen für Flexkopfanordnung und hochfeste Magnetanordnung verfügbar.
- Up to four KJLC TORUS® 4" magnetron sputtering sources. Flexkopfanordnung und hochfeste Magnetanordnungen optional erhältlich
Für weitere Informationen über unsere neuen Mag Keeper-Quellen besuchen Sie bitte den folgenden Link.
SUBSTRATE OPTIONS
Standard-Substrathalterungen
| Größe | 100 mm x 100 mm | 4" | 100 mm x 100 mm | 4" |
|---|---|---|---|---|
| Ausführung | Mehrseitig (nimmt mehrere Substrate und Größen auf) |
Mehrseitig (nimmt mehrere Substrate und Größen auf) |
Single holder | Single holder |
| Rotation | Bis zu 20 RPM | Bis zu 20 RPM | Bis zu 20 RPM | Bis zu 20 RPM |
| Heizung | Bis zu 350 °C | Bis zu 350 °C | Bis zu 350 °C | Bis zu 350 °C |
| Kühlung | Ja | Ja | nicht verfügbar | nicht verfügbar |
| Transfer | nicht verfügbar | nicht verfügbar | Ja | Ja |
Vordruckregelung
- Bis zu vier Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitansmanometer
Reaktive Depositionen
- Ein Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitansmanometer
- Bis zu drei Fujikin FCST1000F Massenflussregler für ein reaktives Gas.
- Substrat-Gasring ist verfügbar
The SPECTROS™ Series is now easily integrated with a glove box. The process chamber features large sliding, full-access, aluminum doors. Dieses neue Kammerdesign macht das Öffnen und Schließen der Kammertür im Inneren der Glovebox zu einem Kinderspiel und bietet gleichzeitig einen schnellen und einfachen Zugang zu Ihren Substrathalterungen und Depositionsquellen. There is also a large swing style rear door for easy access to maintain the system.
Kurt J Lesker is able to offer a wide array of standard and custom glovebox suites, from a standard 4 port or 6 port arrangement, to custom lengths and depths.
Glovebox Spezifikationen
- All stainless steel construction of the glovebox
- Specifically designed to integrate with KJL deposition system
- All stainless steel Swagelok valves, fittings and piping
- Modular design (for easy expansion)
- Lexan front window
- Quick release front window
- Electrical feedthrough with a six (6) outlet power strip
- LED light fixtures
- All stainless steel antechamber; size 15" diameter x 24"L with sliding tray
- Shock assisted door lifting mechanisms
- All stainless steel mini antechamber; size 8" diameter x 15"L
- Stainless steel stand with leveling feet and casters
- Stainless steel vacuum gauges
- Adjustable bin storage unit (adjustable shelving)
- Spare KF40 feedthroughs
- Two (2) HEPA gas flow filters; one (1) inlet, one (1) outlet
- Push button evacuation and refill of antechamber
- All stainless steel 24V DC solenoid valve for refill of antechamber
- Automatic electro-pneumatic valve for evacuation of the antechamber (KF40)
- Common vent line
- Stainless steel filter column for the removal of oxygen and moisture including automatic electro-pneumatic valves (KF40 size)
- Fully automatic system with Siemens PLC control unit and 7" color touch screen with built in operating instructions and system diagnostics. Enthält:
- O2, H20 and pressure trending
- Maintenance alarms
- Power saver mode for vacuum pump/lights (optional)
- Automatic regeneration process using 3-5% hydrogen gas mixture
- Capable of removing 36 liters of oxygen from inert gas before needing a regeneration
- Capable of removing 1300 grams of moisture from inert gas before needing a regeneration
- Continuous oxygen monitoring
- Continuous moisture monitoring
- Includes 50 cfm circulation blower
- Built for continuous operation
- Manual solvent removal system including stainless steel filter column, 10lbs of activated carbon, manual bypass and isolation valves, evacuation and refill valves, and refill drain port (optional)
- Automatic solvent removal system including stainless steel filter column with 20lbs of molecular sieve, automatic bypass and isolation valves with automatic reactivation of filter material (optional)
- Automatic purge valve-200 L/min flow rate
Glovebox Optionen
Neben den Gloveboxen und Systemadapterboxen kann folgendes Zubehör mitgeliefert werden:
- Schleuderanlagen
- Heiße Platten
- UV-Ozonhärtung
- Regenerierbares Lösungsmittel-Reinigungssystem
- Weiteres Zubehör auf Anfrage
Architektur-Übersicht
Kurt J. Lesker Company® eKLipse™ Controls Software wird auf allen KJLC-Plattformen eingesetzt. Die Plattform eKLipse™ steuert eine .NET-Anwendung, die auf einem Windows-PC für die Benutzeroberfläche und den Rezepteditor ausgeführt wird. Die Anlagenautomatisierung erfolgt über einen eigenständigen Echtzeit-Controller.
Rezepte
- Graphical Recipe Builder – Erstellen Sie ganz einfach Rezepte, indem Sie auf die gewünschte Komponente klicken und die Attribute dieses Elements festlegen.
- Scripted Recipe Builder – Ein traditionellerer „scripted“ Rezepteditor zeigt mehr Details zum Setzen oder Überprüfen des Wertes einer Systemkomponente während eines Prozesses.
Zuverlässig
- Echtzeit-Controller – Das System arbeitet unabhängig vom Windows-Softwarepaket und setzt das Rezept bei einer Fehlfunktion der Software/des Computers fort.
- Unabhängige thermische Verdampfung Dünnschicht-Steuerung – Es gibt keine Software von Drittanbietern, die einen „Handshake“ oder „Handoff“ zwischen der Software des Systemherstellers und der Software des Dünnschichtreglers erfordert.
Unbegrenzte Rezepte, (import- und exportfähig)
- Unbegrenzte Anzahl von Rezepten mit Funktionen der Benutzersicherheitsstufe
- Rezept-Import-/Exportfähigkeit (zum Übertragen von Rezepten zwischen ähnlich ausgestatteten Werkzeugen)
- Jeder Rezeptschritt kann so konfiguriert werden, dass der Benutzer einen Wert ändern und Prozessbedingungen ändern kann, ohne das Planungsrezept zu beeinflussen. Zum Beispiel kann das Rezept zum Zeitpunkt der Ausführung den Benutzer zur Eingabe der gewünschten Schichtdicke oder Leistungseinstellung auffordern.
- Einheitliche Benutzererfahrung über alle Depositionstechniken und KJLC-Plattformen (Sputter, Thermal, EBeam, ALD) hinweg.
- Mehrkammer- und Multi-PC-Steuerung für Cluster-Tools
Benutzerdefinierter Diagrammschreiber und Datenaufzeichnung
- Benutzerdefiniertes Diagramm mit bis zu 10 gleichzeitigen Diagrammen
- Der Diagrammschreiber kann verwendet werden, um einen beliebigen Schaltpunkt oder Rückführparameter anzuzeigen.
- Automatische Protokollierung der einzelnen Rezeptschritte für alle Rezepte
- Kartendaten und Konfiguration können gespeichert werden
- Grafische Auswahl der aufzuzeichnenden Signale
Benutzerdefinierte Wartungszähler
- Benutzerdefinierte Wartungszähler sind für jede Komponente verfügbar
- Regelmäßige Wartungsverriegelungen und Rezeptprüfungen können für jeden Wartungszähler konfiguriert werden
- Sputter Target kiloWatt*Stunden- und kundenspezifische Materialverbrauchsverfolgung
Benutzersicherheit
- Unterstützt mehrere Benutzerkonten und Passwortebenen mit benutzerdefiniertem Sicherheitszugang für Rezepte und Bildschirme.
- Der Zugriff auf den Software-Bildschirm kann pro Benutzer angepasst werden
- Rezeptbearbeitung und manuelle Bedienfunktionen können benutzerbezogen zugeordnet werden;
- Benutzer mit vollem Zugriff haben die Möglichkeit, Rezepte und Steuerverriegelungen zu bearbeiten. Benutzer mit eingeschränktem Zugriff sind auf die Ausführung bestimmter Rezepte beschränkt und haben keine Kontrolle über Verriegelungen.
- Jedes Kontrollobjekt kann einer Standard-Benutzersicherheitsstufe zugeordnet werden.
- Der individuelle Zugriff auf den Bildschirm kann jedem Benutzer separat zugeordnet werden.
Funktionen der Mehrbenutzeranlage
- Das Systemereignisprotokoll erfasst alle An- und Abmeldeereignisse der Benutzer, alle ausgeführten Rezepte und Systemstatusmeldungen.
- Die Verriegelung von Vakuum- und Depositionsanlagen ermöglicht eine kontinuierliche Überwachung des Systemstatus und schränkt gleichzeitig die nicht genehmigte Systemnutzung ein (kein Abschalten des Systembildschirms oder PCs erforderlich).
Fernwartungsdienstprogramm und Anwendungen
- Kundenspezifische Version von TeamViewer ermöglicht Fernwartung (kostenlose Android- und IOS-Anwendungen)
- Die Fernverbindung unterstützt die Systemüberwachung und -steuerung sowie die Dateiübertragung.
