Plattform Dünnschichtdepositionssystem
NANO 36™
Affordable, Compact Sputtering or Thermal Evaporation Thin Film Deposition System
The Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ is our optimized, entry level deposition system. Our chamber design is uniquely suited for glovebox integration. With increased capabilities and a smaller footprint, the NANO 36 provides an accessible price point while maintaining the quality you expect from KJLC.
The NANO 36 is compatible with the following deposition techniques:
- Thermal Evaporation (up to four 2" boat assemblies).
- Torus® Magnetron Sputtering sources (up to three 2" or 3" sources).
- 1cc or 10cc LTE Organic deposition sources (up to four).
- Combination of two Thermal and two LTE sources.
- Custom configurations are available upon request.
Die Software von KJLC ermöglicht eine benutzerfreundliche Rezepterstellung zusammen mit einem zuverlässigen, unterbrechungsfreien Verarbeitungsmodul, das den Prozessabschluss unabhängig vom Zustand der Computeroberfläche ermöglicht. Weitere Informationen zu diesem intuitiven, einzigartigen und zuverlässigen Softwarepaket finden Sie unter Software Tab.
Prozesskammer
- Abnehmbare und rekonfigurierbare obere und untere Platten an ISO 250 Anschlüssen (10" Rohr)
- Horizontal ausgerichteter zylindrischer Edelstahlkammerkörper aus Edelstahl
- Gefedert, Pendelausführung, voll begehbar, Aluminium-Vordertür
- Entsprechende Anschlüsse für Pumpen, Prozesse, Messungen und Instrumentierung sind vorhanden.
- Anzahl (2) Ansichtsfenster, die in der Kammertür enthalten sind. Sichtfenster haben jeweils 1,26" Ø Sichtbereich.
Vakuumpumpen und Messungen
- Pfeiffer 260 L/s Turbomolekularpumpe mit einer KJLC RV206 ölgedichteten Schrupppumpe.
- Weitbereichsmessgerät liest von Atmosphäre bis 10-9 Torr.
Sicherheit
Vollständig geschlossenes System-Elektronikgehäuse.
- Kompakter Rahmen, 30,00" breit x 32,00" tief x 44,15" hoch (762 mmbreit x 812,8 mm tief x 1121,4 mm hoch)
- EMO-Schutz ist bei allen KJLC-Systemen Standard.
- Trenntrafo und Sicherheitsverriegelungen sind bei allen KJLC-Systemen Standard.
*Systemabmessungen und Montage abhängig von den gewählten Optionen.
Qualität
Die Verwendung branchenführender Komponenten ermöglicht es KJLC, die hochwertigste PVD-F&E-Anlage auf dem Markt zu produzieren. Komponenten und wichtige Fertigungspunkte sind:
- Ein Jahr Standard-Garantie
- Pfeiffer Turbomolekularpumpen
- KJLC Niedertemperaturquellen
- KJLC Torus-Sputterquellen und Stromversorgungen
- Orbitalschweißen an allen Prozessgasleitungen / Verteilern
PUMPING PERFORMANCE
The NANO 36 offers a Pfeiffer 260 L/s turbomolecular pump and KJLC RV206 oil sealed rough pump as standard components with an option to select an Edwards nXDS6i - 3,6 cfm (6,2 m3/hr) Scroll roughing pump.
Base pressure specification for the NANO 36 is 9 x 10-7 Torr.
DEPOSITION PERFORMANCE
The Nano 36 offers single and multi-technique deposition options (Thermal + LTE only) including thermal evaporation and magnetron sputtering (Torus).
Nur KJLC bietet Mag-Keeper Sputterquellen mit Null-O-Ringen im Kathodenkörper und einem magnetisch gekoppelten Target an, um einfache Targetwechsel zu ermöglichen. (Ein entscheidender Faktor beim Wechsel eines Targets durch eine Glovebox!) Unser zum Patent angemeldetes Kühlbecken-Design ermöglicht den Betrieb bei Leistungsdichten ≥ 200 Watt/0,in2. Diese Kathode ist so ausgelegt, dass sie bis zu einem 0,375" dicken Target auf der 3" Kathode und bis zu einem 0,250" dicken Target auf der 2" Kathode gesputtert wird. Das hochfeste Design ist in der Lage, bis zu einem 0,125" dicken Fe Target mit 3" Kathoden oder 0,0625" dicken Fe Target mit 2" Mag-Keepers zu sputtern. Ohne Niederhalteklammer oder Dunkelraumabschirmung kann diese Kathode mit bis zu ≤ 1mTorr betrieben werden. Das einzigartige Dome-Verschlussdesign erübrigt die Notwendigkeit einer zusätzlichen Kreuzkontaminationsschirmung, die bei herkömmlichen Klapp- oder Schwenkverschlüssen erforderlich ist.
Klicken Sie hier, um mehr über Sputterraten und -homogenität herauszufinden.
PUMPING OPTIONS
Pumpoptionen
- Trockene Pumpe - Edwards nXDS6i - 3,6 cfm (6,2m3/hr) Schnecken-Schrupppumpe.
HV-Ventile
- 3-Positionsschieber für Pfeiffer 260 L/sek Turbo
PROCESS EQUIPMENT OPTIONS
Niedertemperaturverdampfungsquelle (bis zu vier)
- 1cc und 10cc Quellen
- Einzigartiges Plugin-Design
- Leicht nachfüllbar und wartungsfreundlich
- Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.
- KJLC 10cc und 1cc (Niedertemperaturverdampfung) Quelle, geeignet für organische und Niedertemperaturmaterialien (0-550°C)
Thermische Verdampfungsquelle (bis zu vier)
- KJLC Thermische Verdampfungsanordnung (TE), Bis zu vier 2" thermische Verdampfungsquellen (in sequentieller und Co-Deposition-Konfiguration)
- Standard-Thermoversorgung (12v@ 400A)
- Der Quarzkristall-Controller ist mit thermischen Optionen erhältlich.
Niedertemperatur-Verdampfungsquellen (bis zu zwei) und thermische Verdampfungsquellen (bis zu zwei)
- Bietet die Möglichkeit, bis zu zwei LTE- und bis zu zwei thermische Verdampfungsquellen auf einer Grundplatte zu installieren.
- Die verfügbaren Quellgrößen sind auf der Kombinationsbasisplatte die gleichen wie auf der LTE-Basisplatte und nur auf der Basisplatte für die thermische Verdampfung.
- Der Quarzkristall-Controller ist mit der Option der kombinierten Grundplatte erhältlich.
Torus® Magnetron-Sputterquellen (bis zu drei)
- Bis zu drei KJLC Torus® 2" oder 3" Magnetron-Sputterquellen. Flexkopfmontage und hochfeste Magnetmontageoptionen verfügbar.
Für weitere Informationen über unsere neuen Mag Keeper-Quellen besuchen Sie bitte den folgenden Link.
(Bis zu drei) Netzgeräte
- 500 W und 1 kW und 1,5 kW KJLC® DC Netzgeräte
- 300W KJLC RF-Netzgerät
- Der Quarzkristall-Monitor ist mit Sputteroptionen erhältlich.
SUBSTRATE OPTIONS
Substrate
The Nano 36 is designed to allow the use of square substrates 100 mm x 100 mm or smaller and round substrates up to 150 mm diameter or smaller. Die Substratplatte nimmt Substrate unterschiedlicher Größe unter Verwendung einer KJLC-Multisite-Vorrichtung und Substratclips auf. Kundenspezifische Substrat-/Maskenhalter sind auf Anfrage erhältlich.
Zu den Standard-Substratbefestigungsoptionen gehören:
- Rotation (bis zu 20 U/min)
- Rotation mit Heizung (bis zu 350°C)
- Rotation mit Wasserkühlung
Vordruckregelung
- Bis zu zwei Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitätsmanometer
Reaktive Depositionen
- Ein Fujikin FCST1000F Massenflussregler und ein 100mTorr Kapazitansmanometer
- Ein Fujikin FCST1000F Massenflussregler für ein reaktives Gas.
The SPECTROS™ Series is now easily integrated with a glove box. The process chamber features large sliding, full-access, aluminum doors. Dieses neue Kammerdesign macht das Öffnen und Schließen der Kammertür im Inneren der Glovebox zu einem Kinderspiel und bietet gleichzeitig einen schnellen und einfachen Zugang zu Ihren Substrathalterungen und Depositionsquellen. There is also a large swing style rear door for easy access to maintain the system.
Kurt J Lesker is able to offer a wide array of standard and custom glovebox suites, from a standard 4 port or 6 port arrangement, to custom lengths and depths.
Glovebox Spezifikationen
- All stainless steel construction of the glovebox
- Specifically designed to integrate with KJL deposition system
- All stainless steel Swagelok valves, fittings and piping
- Modular design (for easy expansion)
- Lexan front window
- Quick release front window
- Electrical feedthrough with a six (6) outlet power strip
- LED light fixtures
- All stainless steel antechamber; size 15" diameter x 24"L with sliding tray
- Shock assisted door lifting mechanisms
- All stainless steel mini antechamber; size 8" diameter x 15"L
- Stainless steel stand with leveling feet and casters
- Stainless steel vacuum gauges
- Adjustable bin storage unit (adjustable shelving)
- Spare KF40 feedthroughs
- Two (2) HEPA gas flow filters; one (1) inlet, one (1) outlet
- Push button evacuation and refill of antechamber
- All stainless steel 24V DC solenoid valve for refill of antechamber
- Automatic electro-pneumatic valve for evacuation of the antechamber (KF40)
- Common vent line
- Stainless steel filter column for the removal of oxygen and moisture including automatic electro-pneumatic valves (KF40 size)
- Fully automatic system with Siemens PLC control unit and 7" color touch screen with built in operating instructions and system diagnostics. Enthält:
- O2, H20 and pressure trending
- Maintenance alarms
- Power saver mode for vacuum pump/lights (optional)
- Automatic regeneration process using 3-5% hydrogen gas mixture
- Capable of removing 36 liters of oxygen from inert gas before needing a regeneration
- Capable of removing 1300 grams of moisture from inert gas before needing a regeneration
- Continuous oxygen monitoring
- Continuous moisture monitoring
- Includes 50 cfm circulation blower
- Built for continuous operation
- Manual solvent removal system including stainless steel filter column, 10lbs of activated carbon, manual bypass and isolation valves, evacuation and refill valves, and refill drain port (optional)
- Automatic solvent removal system including stainless steel filter column with 20lbs of molecular sieve, automatic bypass and isolation valves with automatic reactivation of filter material (optional)
- Automatic purge valve-200 L/min flow rate
Glovebox Optionen
Neben den Gloveboxen und Systemadapterboxen kann folgendes Zubehör mitgeliefert werden:
- Schleuderanlagen
- Heiße Platten
- UV-Ozonhärtung
- Regenerierbares Lösungsmittel-Reinigungssystem
- Weiteres Zubehör auf Anfrage
Architektur-Übersicht
Kurt J. Lesker Company® eKLipse™ Controls Software wird auf allen KJLC-Plattformen eingesetzt. Die Plattform eKLipse™ steuert eine .NET-Anwendung, die auf einem Windows-PC für die Benutzeroberfläche und den Rezepteditor ausgeführt wird. Die Anlagenautomatisierung erfolgt über einen eigenständigen Echtzeit-Controller.
Rezepte
- Graphical Recipe Builder – Erstellen Sie ganz einfach Rezepte, indem Sie auf die gewünschte Komponente klicken und die Attribute dieses Elements festlegen.
- Scripted Recipe Builder – Ein traditionellerer „scripted“ Rezepteditor zeigt mehr Details zum Setzen oder Überprüfen des Wertes einer Systemkomponente während eines Prozesses.
Zuverlässig
- Echtzeit-Controller – Das System arbeitet unabhängig vom Windows-Softwarepaket und setzt das Rezept bei einer Fehlfunktion der Software/des Computers fort.
- Unabhängige thermische Verdampfung Dünnschicht-Steuerung – Es gibt keine Software von Drittanbietern, die einen „Handshake“ oder „Handoff“ zwischen der Software des Systemherstellers und der Software des Dünnschichtreglers erfordert.
Unbegrenzte Rezepte, (import- und exportfähig)
- Unbegrenzte Anzahl von Rezepten mit Funktionen der Benutzersicherheitsstufe
- Rezept-Import-/Exportfähigkeit (zum Übertragen von Rezepten zwischen ähnlich ausgestatteten Werkzeugen)
- Jeder Rezeptschritt kann so konfiguriert werden, dass der Benutzer einen Wert ändern und Prozessbedingungen ändern kann, ohne das Planungsrezept zu beeinflussen. Zum Beispiel kann das Rezept zum Zeitpunkt der Ausführung den Benutzer zur Eingabe der gewünschten Schichtdicke oder Leistungseinstellung auffordern.
- Einheitliche Benutzererfahrung über alle Depositionstechniken und KJLC-Plattformen (Sputter, Thermal, EBeam, ALD) hinweg.
- Mehrkammer- und Multi-PC-Steuerung für Cluster-Tools
Benutzerdefinierter Diagrammschreiber und Datenaufzeichnung
- Benutzerdefiniertes Diagramm mit bis zu 10 gleichzeitigen Diagrammen
- Der Diagrammschreiber kann verwendet werden, um einen beliebigen Schaltpunkt oder Rückführparameter anzuzeigen.
- Automatische Protokollierung der einzelnen Rezeptschritte für alle Rezepte
- Kartendaten und Konfiguration können gespeichert werden
- Grafische Auswahl der aufzuzeichnenden Signale
Benutzerdefinierte Wartungszähler
- Benutzerdefinierte Wartungszähler sind für jede Komponente verfügbar
- Regelmäßige Wartungsverriegelungen und Rezeptprüfungen können für jeden Wartungszähler konfiguriert werden
- Sputter Target kiloWatt*Stunden- und kundenspezifische Materialverbrauchsverfolgung
Benutzersicherheit
- Unterstützt mehrere Benutzerkonten und Passwortebenen mit benutzerdefiniertem Sicherheitszugang für Rezepte und Bildschirme.
- Der Zugriff auf den Software-Bildschirm kann pro Benutzer angepasst werden
- Rezeptbearbeitung und manuelle Bedienfunktionen können benutzerbezogen zugeordnet werden;
- Benutzer mit vollem Zugriff haben die Möglichkeit, Rezepte und Steuerverriegelungen zu bearbeiten. Benutzer mit eingeschränktem Zugriff sind auf die Ausführung bestimmter Rezepte beschränkt und haben keine Kontrolle über Verriegelungen.
- Jedes Kontrollobjekt kann einer Standard-Benutzersicherheitsstufe zugeordnet werden.
- Der individuelle Zugriff auf den Bildschirm kann jedem Benutzer separat zugeordnet werden.
Funktionen der Mehrbenutzeranlage
- Das Systemereignisprotokoll erfasst alle An- und Abmeldeereignisse der Benutzer, alle ausgeführten Rezepte und Systemstatusmeldungen.
- Die Verriegelung von Vakuum- und Depositionsanlagen ermöglicht eine kontinuierliche Überwachung des Systemstatus und schränkt gleichzeitig die nicht genehmigte Systemnutzung ein (kein Abschalten des Systembildschirms oder PCs erforderlich).
Fernwartungsdienstprogramm und Anwendungen
- Kundenspezifische Version von TeamViewer ermöglicht Fernwartung (kostenlose Android- und IOS-Anwendungen)
- Die Fernverbindung unterstützt die Systemüberwachung und -steuerung sowie die Dateiübertragung.
